[發(fā)明專利]一種包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010910401.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112080745B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-11-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙維忠;韓淳浩;史彬;楊秀昆;李帥琦;鄭興林;謝麗敏;楊秀英;西爾艾力.阿不拉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 正辰激光科技(山東)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C28/00 | 分類號(hào): | C23C28/00;C23C4/131;C23C4/06;C22C45/02;C23C26/00;B05D7/14;C09D1/02;C09D7/61;C04B35/10;C04B35/48;C04B35/66;F22B37/02;F22B37/10 |
| 代理公司: | 青島清泰聯(lián)信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37256 | 代理人: | 李陽(yáng) |
| 地址: | 257000 山東省東營(yíng)市東*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 包含 非晶態(tài)合金 識(shí)別 復(fù)合 涂層 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用,屬于復(fù)合材料噴涂技術(shù)領(lǐng)域。所述包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層,包括非晶合金底層和無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒面層,所述非晶合金底層包括如下重量份的組分:Fe:50~55份、Cr:24~28份、Mo:15~19份、B:2~2.5份和C:1.5~2.5份;所述無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒面層包括如下重量份的組分:水38~60份,氧化鋯11~14份,硅酸鉀11~13份,氧化鉻4~7份,氧化鋁11~18份,硅酸鈉4~6份,三水磷酸氫鎂3~5份,二氧化硅0.2~1份和耐火黏土8~12份。本發(fā)明提供的復(fù)合涂層既能有效解決水冷壁腐蝕結(jié)焦的問(wèn)題,又能減少噴砂工藝頻率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于復(fù)合材料噴涂技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用。
背景技術(shù)
電廠鍋爐運(yùn)行過(guò)程中,常會(huì)發(fā)生水冷壁遭到腐蝕結(jié)焦的問(wèn)題,在出現(xiàn)類似問(wèn)題的情況下,如果沒(méi)有及時(shí)采取應(yīng)對(duì)措施或采用了不當(dāng)?shù)拇胧紩?huì)對(duì)鍋爐運(yùn)行造成不良影響。目前普遍采用電弧噴涂一層耐腐蝕金屬抵抗腐蝕,但該方法存在的問(wèn)題是耐腐蝕金屬僅能保證自身短時(shí)間內(nèi)不受腐蝕影響,但電弧噴涂時(shí)會(huì)留有一定的縫隙,腐蝕物質(zhì)會(huì)通過(guò)縫隙進(jìn)入水冷壁,同時(shí)耐腐蝕金屬表面仍然會(huì)黏著大量結(jié)焦及污垢粉塵,嚴(yán)重影響鍋爐水冷壁熱交換。而且一旦耐腐蝕金屬被腐蝕消耗完畢,再次噴涂時(shí)必須對(duì)水冷壁進(jìn)行噴砂處理才可以二次噴涂,而噴砂工藝對(duì)環(huán)境污染極大,且無(wú)法與其他維修工種同時(shí)作業(yè),極大的破壞環(huán)境,且延長(zhǎng)電廠鍋爐維修工期。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用,既能有效解決水冷壁腐蝕結(jié)焦的問(wèn)題,又能減少噴砂工藝頻率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
本發(fā)明提供了一種包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層,包括非晶合金底層和無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒面層,所述非晶合金底層包括如下重量份的組分:Fe:50~55份、Cr:24~28份、Mo:15~19份、B:2~2.5份和C:1.5~2.5份;所述無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒面層包括如下重量份的組分:水38~60份,氧化鋯11~14份,硅酸鉀11~13份,氧化鉻4~7份,氧化鋁11~18份,硅酸鈉4~6份,三水磷酸氫鎂3~5份,二氧化硅0.2~1份和耐火黏土8~12份。
優(yōu)選的,所述非晶合金底層包括如下重量份的組分:Fe:52份、Cr:26份、Mo:16份、B:2.1份和C:2份。
優(yōu)選的,所述無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒面層包括如下重量份的組分:水50份,氧化鋯12份,硅酸鉀12份,氧化鉻6份,氧化鋁15份,硅酸鈉5份,三水磷酸氫鎂4份,二氧化硅0.6份和耐火黏土10份。
優(yōu)選的,所述無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒面層中氧化鋯、氧化鉻、氧化鋁和二氧化硅顆粒的粒度分別獨(dú)立為0.2~0.5μm。
本發(fā)明提供了上述方案所述的包含非晶態(tài)合金識(shí)別層的復(fù)合涂層的制備方法,包括如下步驟:
1)將鍋爐水冷壁進(jìn)行預(yù)處理,得到預(yù)處理后的鍋爐水冷壁;
2)將非晶態(tài)合金底層的各組分混合制備成非晶焊絲,將非晶焊絲噴涂到所述步驟1)的預(yù)處理后的鍋爐水冷壁上,得到非晶態(tài)合金底層;
3)將無(wú)機(jī)鹽陶瓷顆粒的各組分混合,將得到的混合液噴涂到所述步驟2)的非晶態(tài)合金底層上,得到復(fù)合涂層。
優(yōu)選的,所述步驟1)中預(yù)處理的方式為噴砂處理。
優(yōu)選的,所述步驟2)中采用電弧噴涂的方法進(jìn)行噴涂,噴涂的厚度為0.1~0.2mm;所述采用電弧噴涂時(shí)的工藝條件為:電壓:33~35V,電流:235~245A,噴嘴距水冷壁表面距離:200mm,壓縮空氣壓力:0.5MPa,壓縮空氣流量:5.5m3/min~6.5m3/min。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C28-00 用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大組中單一組的方法,或用包含在C23C小類的方法與C25D小類中方法的組合以獲得至少二層疊加層的鍍覆
C23C28-02 .僅為金屬材料覆層
C23C28-04 .僅為無(wú)機(jī)非金屬材料覆層
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