[發明專利]掩模框架以及包括其的沉積系統

在審

• 申請號: 202010908264.2
• 申請日: 2020-09-02
• 公開（公告）號: CN114196910A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 崔明云;鄭夏璟;樸炚秀;崔相奎;俞權國;金永國
• 申請（專利權）人: 延原表股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;姜長星

1.一種掩模框架，固定有與基板結合的掩模，其特征在于，

在所述掩摸框架的一側邊的端部形成有平坦部或者向布置有基板的內側凹陷的凹陷部；

在所述掩摸框架的與形成有所述平坦部或者凹陷部的邊對向的邊形成有向外側凸出的阻斷部，

其中，所述阻斷部以及所述平坦部或者凹陷部形成為：作為結合在彼此連續地布置的基板的掩模框架中的第一掩模框架的阻斷部維持進入第二掩模框架的平坦部或者凹陷部的狀態下不彼此接觸，從而在縮短基板和基板之間的間距的同時阻斷蒸發物向腔室頂部側飛散。

2.如權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，

在掩模框架的形成有所述平坦部或凹陷部和阻斷部的兩個邊分別沿邊形成有向上凸起的凸出部而防止掩模框架下垂。

3.如權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，

形成有所述平坦部或者凹陷部的一側邊的端部和與其對向且形成有阻斷部的邊的端部配備有沿邊向上凸起的凸出部，所述平坦部或凹陷部和阻斷部分別形成在凸出部上。

4.如權利要求3所述的掩模框架，其特征在于，

在所述凸出部的預定高度形成阻斷部，將凸出部的外側端部向內側挖出而形成使阻斷部進入的凹陷部。

5.如權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，

所述凹陷部和阻斷部分別形成在掩模框架的邊的端部主體的預定高度。

6.如權利要求1至5中的任意一項所述的掩模框架，其特征在于，

在掩模框架的沒有形成所述平坦部或凹陷部和阻斷部的邊分別沿邊形成有向上凸起的凸出部。

7.如權利要求2至5中的任意一項所述的掩模框架，其特征在于，

所述凸出部包括開口部以使掩模棒通過而被固定到掩模框架。

8.如權利要求1至5中的任意一項所述的掩模框架，其特征在于，

形成掩模框架端部主體內側的寬度和厚度的部分被加工為具有沿物質束的傾斜而傾斜的形象。

9.如權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，

形成有所述平坦部或凹陷部的一側邊的端部和與其對向且形成有阻斷部的邊的端部中的一個端部配備有沿邊向上凸起的凸出部。

10.如權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，

通過在掩模框架端部的平坦的部分配備包括有一個以上的鉗的基板固定裝置而固定基板。

11.如權利要求1或2所述的掩模框架，其特征在于，

所述掩模框架的內壁配備有：

第一階梯部，向掩模框架內側凸出；以及

第二階梯部，在所述第一階梯部向下端連續，

其中，所述第一階梯部與安置用于傳送裝載到掩模盤的卡盤的導軌對應，

所述第二階梯部與支撐配備在卡盤的防滑墊的防滑墊安置部對應，

在所述掩模框架的下面，在掩模框架的四個邊配備有多個下凹地凹陷的階梯部作為用于布置掩模棒并將其焊接到掩模框架的掩模棒插入-焊接部。

12.如權利要求1或2所述的掩模框架，其特征在于，

所述掩模框架的內壁配備有：

第一階梯部，向掩模框架內側凸出；以及

第二階梯部，在所述第一階梯部向下端連續，

在所述第一階梯部布置有包括鉗的基板固定裝置，

所述第二階梯部與用于支撐基板的支撐面對應，

在所述掩模框架的下面，掩模棒被焊接而布置到掩模框架，為了使掩模棒與基板緊貼，在第二階梯部的基板支撐面中掩模棒經過的部分不形成有基板支撐面。

13.如權利要求11所述的掩模框架，其特征在于，還包括：

鉗插入槽，在第二階梯部以預定間隔形成有多個，

其中，所述鉗插入槽為收納作為將基板抓取至卡盤的輔助單元的鉗的空間。