[發(fā)明專利]掩模框架以及包括其的沉積系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010908264.2
• 申請日: 2020-09-02
• 公開（公告）號: CN114196910A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔明云;鄭夏璟;樸炚秀;崔相奎;俞權(quán)國;金永國
• 申請（專利權(quán)）人: 延原表股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強(qiáng);姜長星

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠縮短在在線沉積系統(tǒng)中被連續(xù)帶入腔室的基板和基板之間的間距的掩模框架。并且，能夠應(yīng)用于在線水平沉積系統(tǒng)以及在線垂直沉積系統(tǒng)。根據(jù)目的，本發(fā)明的掩模框架的一側(cè)邊的端部形成有平坦部或者向布置有基板的內(nèi)側(cè)凹陷的凹陷部；在掩摸框架的與形成有平坦部或者凹陷部的邊對向的邊形成有向外側(cè)凸出的阻斷部，其中，阻斷部以及平坦部或者凹陷部形成為：作為結(jié)合在彼此連續(xù)地布置的基板的掩模框架中的第一掩模框架的阻斷部維持進(jìn)入第二掩模框架的平坦部或者凹陷部的狀態(tài)下不彼此接觸，從而在縮短基板和基板之間的間距的同時(shí)阻斷蒸發(fā)物向腔室頂部側(cè)飛散。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于顯示器、照明的有機(jī)發(fā)光元件的制造工藝的掩模框架，更加詳細(xì)地，涉及設(shè)計(jì)為能夠縮短在在線(Inline)水平和垂直沉積系統(tǒng)中被連續(xù)傳送的基板之間的間距的掩模框架。

背景技術(shù)

有機(jī)發(fā)光元件的制造是通過在諸如玻璃的基板結(jié)合掩模并將有機(jī)物作為蒸發(fā)源進(jìn)行沉積而實(shí)現(xiàn)的。此時(shí)，在配備有開口部的掩模框架貼附掩模片而用作掩模。掩模框架以立體圖和側(cè)剖面圖的形式示出于圖1中。在在線系統(tǒng)(Inline System)實(shí)施這種沉積工藝。在線沉積系統(tǒng)中，以線型布置工藝腔室，基板被連續(xù)地帶入腔室而迅速地進(jìn)行工藝。由于布置在沉積物質(zhì)的腔室的蒸發(fā)源持續(xù)噴射蒸發(fā)物，因此在線系統(tǒng)中，被帶入沉積腔室的基板之間的間距越窄越好。這樣可以防止高價(jià)的物質(zhì)被浪費(fèi)，也可以進(jìn)一步縮短粘著時(shí)間(Tacktime)。

此外，裝載有基板的掩模的掩模框架端部構(gòu)成為比基板具有更大的尺寸，因此安全地安置基板。從蒸發(fā)源噴射的蒸發(fā)物具有余弦(Cosine)分布，并且以放射狀噴出。此時(shí)，為了使從所述蒸發(fā)源噴出的蒸發(fā)物在沿靠近固定的蒸發(fā)源的掩模框架方向上不被所述掩模框架端部遮擋而被沉積到玻璃基板，掩模框架端部會(huì)確保充分的邊緣部，構(gòu)成相應(yīng)邊緣部的部分的內(nèi)側(cè)形成為具有與蒸發(fā)物的入射角度一致的傾斜角。因此，基板和基板之間因掩模框架端部而必然存在間距。

并且，由于在被連續(xù)帶入沉積腔室的基板/掩模中，掩模框架之間的間隙會(huì)成為從蒸發(fā)源噴射的蒸發(fā)物污染腔室頂部和壁面的通路，因此為了防止這種情形而使掩模框架端部如圖1所示地凸出，并且形成在前端和后端的凸出部以彼此具有高度差的方式形成而如彼此嵌合地布置，從而在移動(dòng)時(shí)不被干擾并起到阻斷縫隙以使蒸發(fā)物無法到達(dá)頂部的阻斷部的作用。然而，如上所述的凸出部在具有作為積極功能的蒸發(fā)物阻斷功能的同時(shí)，還具有進(jìn)一步增加基板之間的間距而浪費(fèi)更多的高價(jià)物質(zhì)并增加粘著時(shí)間的消極功能。即，由于從蒸發(fā)源噴射的蒸發(fā)物具有傾斜的角度，因此掩模框架端部要確保充分的邊緣部才能實(shí)現(xiàn)至基板端部的沉積，從而使基板和基板之間的間距必然具有預(yù)定長度，還由于用于防止蒸發(fā)物向頂部飛散的阻斷部凸出，基板之間的間距變得更遠(yuǎn)。

雖然在韓國公開專利10-2018-0047594號以外的大量公報(bào)中對掩模有所記載，并且所述公報(bào)中對超精密掩模的制造有所記載，但沒有認(rèn)知到上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠縮短在在線沉積系統(tǒng)中被連續(xù)帶入腔室的基板和基板之間的間距的掩模框架。

并且，本發(fā)明還期望將掩摸框架構(gòu)成為根據(jù)蒸發(fā)物的噴射角度而傾斜地入射的蒸發(fā)物不被阻斷同時(shí)還提供能夠防止隨著掩模框架與基板被大型化而發(fā)生的下垂現(xiàn)象的構(gòu)成。

并且，本發(fā)明期望將掩摸框架如上所述地構(gòu)成為能夠減小基板之間的間距的同時(shí)還提供能夠在拉伸和焊接掩模棒的工藝中原樣使用已往的裝置的構(gòu)成。

根據(jù)所述目的，本發(fā)明中，掩模框架的一側(cè)邊具有向布置有基板的內(nèi)側(cè)凹陷的凹陷部形象，與其對向的邊具有向外側(cè)凸出的阻斷部形象，使得作為結(jié)合在彼此連續(xù)地布置的基板的掩模框架的端部的第一掩模框架(位于前側(cè)的掩模框架)的阻斷部維持相隔間距而進(jìn)入第二掩模框架(位于后側(cè)的掩模框架)的凹陷部的狀態(tài)而在減小基板和基板之間的間距的同時(shí)通過掩模框架的阻斷部阻斷蒸發(fā)物向頂部側(cè)飛散。

并且，本發(fā)明中，通過在向掩模框架邊的上側(cè)凸出的凸出部上形成形成在掩模框架邊的凹陷部和阻斷部，從而強(qiáng)化掩模框架的剛性和張力來防止因重量導(dǎo)致下垂現(xiàn)象。