[發明專利]晶圓電性檢測方法在審
| 申請號: | 202010906917.3 | 申請日: | 2020-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN112038251A | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發明(設計)人: | 閆玉琴;程劉鎖;米魁;范曉;王函;陳廣龍 | 申請(專利權)人: | 華虹半導體(無錫)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;G01R31/26;G01R31/28 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 羅雅文 |
| 地址: | 214028 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶圓電性 檢測 方法 | ||
1.一種晶圓電性檢測方法,其特征在于,所述方法包括:
對晶圓進行熱處理,去除所述晶圓上焊盤表面的水汽;
將所述晶圓放置在電性檢測機臺,對所述晶圓進行電性測試。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述將所述晶圓放置在電性檢測機臺,對所述晶圓進行電性測試,包括:
將所述晶圓放置在電性檢測機臺,檢測所述晶圓的漏電參數。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對晶圓進行熱處理,去除所述晶圓上焊盤表面的水汽,包括:
將所述晶圓在預定溫度下加熱至少30分鐘,烘干所述晶圓上焊盤表面的水汽。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述預定溫度為250℃至350℃。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對晶圓進行熱處理,去除所述晶圓上焊盤表面的水汽,包括:
將所述晶圓放入烘箱進行熱處理,烘干所述晶圓上焊盤表面的水汽。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對晶圓進行熱處理,去除所述晶圓上焊盤表面的水汽,包括:
將所述晶圓放入真空烘烤腔體進行熱處理,烘干所述晶圓上焊盤表面的水汽。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述晶圓經過濕法制程處理。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述晶圓電性檢測方法應用于晶圓封裝之前。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





