[發明專利]一種鍍膜玻璃的制備方法

在審

• 申請號: 202010906805.8
• 申請日: 2020-09-02
• 公開（公告）號: CN112125534A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 李軍;周文謙;蘭文平;牛建國;張林嵩;高華;譚光仁
• 申請（專利權）人: 湖北億鈞耀能新材股份公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供一種鍍膜玻璃的制備方法。所述鍍膜玻璃制備方法包括：執行步驟S1，提供玻璃基底；執行步驟S2，在所述玻璃基底上濺射沉積功能膜層；執行步驟S3，在所述功能膜層之異于玻璃基底一側濺射沉積氧化鋯耐磨耗層，且所述氧化鋯耐磨耗層之濺射腔體與相鄰的所述功能膜層之濺射腔體的隔離系數至少為30，所述氧化鋯耐磨耗層采用中頻電源，并在電流模式下控制濺射沉積。本發明所述鍍膜玻璃的制備方法可以保證氧化鋯耐磨耗層在濺射沉積過程中啟輝穩定，膜層濺射均一，同時所述氧化鋯靶材表面不結瘤。另一方面，通過本發明鍍膜玻璃制備方法所獲得的鍍膜玻璃膜層強度改善明顯，可滿足玻璃深加的冷加工、熱處理，值得業內推廣使用。

技術領域

本發明涉及建筑玻璃幕墻技術領域，尤其涉及一種鍍膜玻璃的制備方法。

背景技術

目前，鍍膜玻璃由于其優良的性能已經在各個領域得到了廣泛的應用。然而，其在運輸和儲藏的過程中，基片膜層容易劃傷、磨損，并且其銀層容易氧化。另外，鍍膜玻璃在進行各種冷加工和熱處理，如切片、磨損，夾層等處理后，物理化學性能容易發生改變。

針對上述問題，目前國內大部分玻璃深加工企業使用PE有機貼膜保護基片膜層，雖然能起到一定的保護作用，但是在需要使用基片時，需要人工揭膜，且該膜層不能重復利用，又不易降解，批量使用勢必會造成大量的固體廢物，對環保不利。

故針對現有技術存在的問題，本案設計人憑借從事此行業多年的經驗，積極研究改良，于是有了本發明一種鍍膜玻璃的制備方法。

發明內容

本發明是針對現有技術中，鍍膜玻璃在運輸和儲藏的過程中，基片膜層容易劃傷、磨損，并且其銀層容易氧化等缺陷提供一種鍍膜玻璃的制備方法

為實現本發明之目的，本發明提供一種鍍膜玻璃的制備方法。所述鍍膜玻璃制備方法包括：執行步驟S1，提供玻璃基底；執行步驟S2，在所述玻璃基底上濺射沉積功能膜層；執行步驟S3，在所述功能膜層之異于玻璃基底一側濺射沉積氧化鋯耐磨耗層，且所述氧化鋯耐磨耗層之濺射腔體與相鄰的所述功能膜層之濺射腔體的隔離系數至少為30，所述氧化鋯耐磨耗層采用中頻電源，并在電流模式下控制濺射沉積。

可選地，所述氧化鋯耐磨耗層采用中頻電源，通過電流模式控制，所述氧化鋯耐磨耗層的中頻電源之脈沖頻率為20~55kHz。

可選地，所述氧化鋯耐磨耗層的電源之脈沖頻率為30~45kHz。

可選地，所述氧化鋯耐磨耗層在純氬氣工藝氣氛下，啟輝功率范圍為1.0~1.45kWAC/m。

可選地，在所述氧化鋯耐磨耗層啟輝后，以0.05~0.15Amp/m的速度進行功率提升。

可選地，在所述氧化鋯耐磨耗層的功率達到設定值時，逐漸在工藝腔室內通入氧氣，使得所述氧化鋯耐磨耗層電弧數穩定。

可選地，所述電弧數必須小于250arec/min/m。

可選地，所述氧化鋯耐磨耗層濺射沉積結束后，所述氧化鋯耐磨耗層的功率下降為1.5~2.5kW/m。

可選地，當氧化鋯耐磨耗層的功率下降至2.5kW AC/m以下時，關閉所述脈沖電源。

綜上所述，本發明所述鍍膜玻璃的制備方法可以保證氧化鋯耐磨耗層在濺射沉積過程中啟輝穩定，膜層濺射均一，同時所述氧化鋯靶材表面不結瘤。另一方面，通過本發明鍍膜玻璃制備方法所獲得的鍍膜玻璃膜層強度改善明顯，可滿足玻璃深加的冷加工、熱處理，值得業內推廣使用。

附圖說明

圖1所示為本發明鍍膜玻璃的制備方法所制備的鍍膜玻璃之結構示意圖；

圖2 所示為本發明鍍膜玻璃的制備方法之流程圖；

圖3所示為本發明鍍膜玻璃的制備方法所獲得的鍍膜玻璃之結構示意圖。