[發明專利]一種高解析度干膜光阻劑

有效

• 申請號: 202010904442.4
• 申請日: 2020-09-01
• 公開（公告）號: CN112034685B
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 杜永杰;彭威;楊衛國;鄧曉明
• 申請（專利權）人: 珠海市能動科技光學產業有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/027
• 代理公司: 佛山幫專知識產權代理事務所(普通合伙) 44387
• 代理人: 顏春艷

本發明涉及線路板生產制作技術領域，尤其涉及一種高解析度干膜光阻劑，其包含以下組分：高分子粘合劑A，活性單體B，丙烯酸酯類光固化單體，自由基引發劑C，N?苯基甘氨酸，增塑劑，紫外光吸收劑，熱聚合抑制劑；所述活性單體B為活性單體B1或/和活性單體B2，所述活性單體B占上述組分總質量的1％～10％。本發明所述的水溶液顯影的干膜光阻劑的解析能力明顯強于市售的干膜光阻劑；此外，本發明所述的干膜光阻劑的獨立線附著力也有明顯提升，且邊墻結構垂直度好。因此，本發明所提供的高解析度干膜光阻劑具有廣闊的應用前景和不菲的市場價值。

技術領域

本發明涉及線路板生產制作技術領域，尤其涉及一種高解析度干膜光阻劑。

背景技術

一般情況下，干膜光阻劑的組份包含有丙烯酸或者甲基丙烯酸單體形成的熱塑性聚合物、光聚合單體、熱聚合抑制劑、自由基光引發劑、紫外光吸收劑。它們通常作為干膜卷出售，組份夾在柔性支持薄膜PET和覆蓋膜PE之間。

隨著5G的普及，5G相關設備的線路板的線路密集度和精細度都有更高的要求。傳統干膜光阻劑的解析精度一般介于光阻劑層厚度的0.8～1.0之間，一般情況下，干膜光阻劑的光阻劑層越厚，其解析精度越低；干膜光阻劑的光阻劑層越厚，其填充性能越好。在干膜光阻劑的實際應用中，其填充性能是一項重要指標，填充性能好可以更好解決銅面凹陷帶來的缺陷；軟硬結合板也要求干膜光阻劑有很好的填充性能的前提下有出色的解析精度。

然而，隨著線路線路越來越精密，對光阻劑的解析能力有越來越高的要求。

發明內容

為了進一步提升干膜光阻劑的解析度，本發明提供了一種全新的干膜光阻劑，其能夠把解析精度提高到介于光阻劑層厚度的0.5～0.7之間，且在線路板制作的實際應用中保證較高的生產良率。因此，該全新的干膜光阻劑適用于PCB、FPC和HDI板的制作。

為實現上述目的，本發明采用如下技術方案：

本發明第一方面提供了一種高解析度干膜光阻劑，其包含以下組分：

高分子粘合劑A，活性單體B，丙烯酸酯類光固化單體，自由基引發劑C，N-苯基甘氨酸，增塑劑，紫外光吸收劑，熱聚合抑制劑；

其中，所述活性單體B為活性單體B1或/和活性單體B2，所述活性單體B占上述組分總質量的1％～10％；

其中，活性單體B1的結構式為：

在活性單體B1中，n表示0～15的整數；

其中，活性單體B2的結構式為：

在活性單體B2中，n表示0～15的整數。

由此可見，所述活性單體B為乙醇胺改性的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)；并且，活性單體B1為乙醇胺改性后的(乙氧基)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMP(EO)nTA)，而活性單體B2為乙醇胺改性后的(丙氧基)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMP(PO)nTA)。

并且，所述自由基引發劑C可選用雙咪唑類大分子引發劑以及改性的雙咪唑類大分子引發劑；從成本考慮，還可搭配使用二苯甲酮、ITX和光引發劑184。

此外，上述高解析度干膜光阻劑配方中還可選地包含其他組分，例如，附著力促進劑、染料以及抗氧劑等。