[發(fā)明專利]一種磁鋼片、磁聚焦系統(tǒng)及包括其的行波管在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010902195.4 | 申請日： | 2020-09-01 |
| 公開（公告）號： | CN112233954A | 公開（公告）日： | 2021-01-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 唐燁;潘攀 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國電子科技集團公司第十二研究所 |
| 主分類號： | H01J23/087 | 分類號： | H01J23/087;H01J23/02;H01J25/34 |
| 代理公司： | 北京正理專利代理有限公司 11257 | 代理人： | 李澤彥 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁鋼 聚焦 系統(tǒng) 包括 行波 | ||
1.一種磁鋼片，其特征在于，包括：
具有第一中心通孔的第一本體，以及形成在所述第一本體上且貫穿所述磁鋼片的上下側(cè)表面的U型槽口；
所述U型槽口由所述第一中心通孔的孔心沿所述第一中心通孔的徑向方向延伸貫穿所述第一本體的外側(cè)壁表面形成；
所述磁鋼片還包括與所述U型槽口同中心線設置的，且開口方向背離所述U型槽口的開口方向的第一補償槽口，所述第一補償槽口貫穿所述磁鋼片的上下側(cè)表面；
所述第一補償槽口的長度小于所述磁鋼片第一本體的半徑長度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁鋼片，其特征在于，所述第一補償槽口的寬度與所述U型槽口的寬度相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁鋼片，其特征在于，所述第一補償槽口包括兩相對的側(cè)壁面，以及靠近所述磁鋼片第一本體的第一中心通孔的底壁面；
所述第一補償槽口的兩相對的側(cè)壁面均為平直面；
所述底壁面為弧面或平直面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁鋼片，其特征在于，所述第一補償槽口的底壁面為弧面，所述弧面的半徑與所述第一中心通孔的半徑相同。
5.一種磁聚焦系統(tǒng)，其特征在于，包括有至少一個磁環(huán)和如權(quán)利要求1-4中任一項所述的磁鋼片。
6.一種行波管，其特征在于，該行波管包括電子槍、慢波系統(tǒng)、如權(quán)利要求5所述的磁聚焦系統(tǒng)和輸能窗；
其中，所述磁鋼片位于靠近輸能窗的位置，所述磁鋼片的U型槽口的開口方向朝向所述輸能窗。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的行波管，其特征在于，所述磁聚焦系統(tǒng)包括有位于所述磁鋼片靠近所述電子槍一側(cè)的磁環(huán)；
所述磁環(huán)包括具有第二中心通孔的第二本體，以及形成在所述第二本體上且與所述第一補償槽口對應設置的第二補償槽口，所述第二補償槽口貫穿所述磁環(huán)的上下側(cè)表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的行波管，其特征在于，所述第二補償槽口的長度與所述第一補償槽口的長度相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的行波管，其特征在于，所述第二補償槽口的寬度與所述第一補償槽口的寬度相同。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國電子科技集團公司第十二研究所，未經(jīng)中國電子科技集團公司第十二研究所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010902195.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
