[發明專利]一種累積法泄露檢測方法和系統在審
| 申請號： | 202010900813.1 | 申請日： | 2020-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN112014037A | 公開（公告）日： | 2020-12-01 |
| 發明（設計）人： | 曹定愛 | 申請（專利權）人： | 中品國際信用管理有限公司 |
| 主分類號： | G01M3/00 | 分類號： | G01M3/00;G06F17/16;G06F17/18 |
| 代理公司： | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人： | 鄧凌云 |
| 地址： | 610000 四川省成都市武*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 累積 泄露 檢測 方法 系統 | ||
1.一種累積法泄露檢測方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
獲取待檢測件上的多個待檢測位置；
獲取所述多個待檢測位置的第一泄露值；
根據所述第一泄露值，基于累積法，確定用于表征所述待檢測件在靜止狀態下的第一泄露值變化曲線的至少一個第一參數值；
獲取所述多個待檢測位置的第二泄露值；
根據所述第二泄露值，基于累積法，確定用于表征所述待檢測件在工作狀態下的第二泄露值變化曲線的至少一個第二參數值；
基于所述至少一個第一參數值和至少一個第二參數值，確定所述待測物體的至少一個泄露檢測性能。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一參數值包括泄露值參數β0、時間參數β1和隨機參數ε1。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二參數值包括泄露值參數β3、時間參數β2和隨機參數ε2。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二參數的擬合過程采用求取最小殘差平方和的方法。
5.一種累積法泄露檢測系統，其特征在于，包括第一獲取模塊、第二獲取模塊、第一參數確定模塊、第三獲取模塊、第二參數確定模塊和性能確定模塊：
第一獲取模塊，用于獲取待檢測件上的多個待檢測位置；
第二獲取模塊，用于獲取所述多個待檢測位置的第一泄露值；
第一參數確定模塊，用于根據所述第一泄露值，基于累積法，確定用于表征所述待檢測件在靜止狀態下的第一泄露值變化曲線的至少一個第一參數值；
第三獲取模塊，用于獲取所述多個待檢測位置的第二泄露值；
第二參數確定模塊，用于根據所述第二泄露值，基于累積法，確定用于表征所述待檢測件在工作狀態下的第二泄露值變化曲線的至少一個第二參數值；
計算模塊，用于基于所述至少一個第一參數值和至少一個第二參數值，確定所述待測物體的至少一個泄露檢測性能。
6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述第一參數值包括泄露值參數β0、時間參數β1和隨機參數ε1。
7.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述第二參數值包括泄露值參數β3、時間參數β2和隨機參數ε2。
8.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述第二參數的擬合過程采用求取最小殘差平方和的方法。
9.一種累積法泄露檢測裝置，包括處理器，其特征在于，所述處理器用于執行權利要求1～4中任一項所述的方法。
10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述存儲介質存儲計算機指令，當計算機讀取存儲介質中的計算機指令后，計算機執行如權利要求1～4任一項所述的累積法泄露檢測方法。
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