[發(fā)明專利]電子元件的接合結(jié)構(gòu)及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010899175.6 | 申請日: | 2020-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN114121691A | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許家福;楊凱銘;林溥如;柯正達(dá) | 申請(專利權(quán))人: | 欣興電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;H01L23/488 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 張娜;臧建明 |
| 地址: | 中國臺灣桃*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子元件 接合 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供一種電子元件的接合結(jié)構(gòu)的制造方法包括以下步驟。提供包括第一導(dǎo)電接合部的第一電子組件。提供包括第二導(dǎo)電接合部的第二電子組件。形成第一有機(jī)高分子層于第一導(dǎo)電接合部上。形成第二有機(jī)高分子層于第二導(dǎo)電接合部上。通過第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部接合第一電子組件與第二電子組件,以使第一電子組件與第二電子組件電性連接。進(jìn)行接合后第一有機(jī)高分子層與第二有機(jī)高分子層擴(kuò)散至第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部內(nèi)。另提供一種電子元件的接合結(jié)構(gòu)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種接合結(jié)構(gòu)及其制造方法,尤其涉及一種電子元件的接合結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)
一般而言,會有諸多因素影響電子產(chǎn)品品質(zhì)。舉例而言,在電子元件的接合結(jié)構(gòu)中,其接合面因工藝條件常會具有氧化的問題,且欲接合元件的表面平坦度與自身材料特性(如材料本身的物質(zhì)組成與晶粒微結(jié)構(gòu))等也會影響接合強(qiáng)度。因此,如何設(shè)計(jì)出一種電子元件的接合結(jié)構(gòu)可以在有效改善接合面氧化的問題的同時(shí)提升接合強(qiáng)度,進(jìn)而可以具有較佳的產(chǎn)品品質(zhì)已成為本領(lǐng)域的技術(shù)人員的一大挑戰(zhàn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是針對一種一種電子元件的接合結(jié)構(gòu)及其制造方法,其可以在有效改善接合面氧化的問題的同時(shí)提升接合強(qiáng)度,進(jìn)而可以具有較佳的產(chǎn)品品質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,一種電子元件的接合結(jié)構(gòu)的制造方法包括而不限于以下步驟。提供包括而不限于第一導(dǎo)電接合部的第一電子組件。提供包括而不限于第二導(dǎo)電接合部的第二電子組件。形成第一有機(jī)高分子層于第一導(dǎo)電接合部上。形成第二有機(jī)高分子層于第二導(dǎo)電接合部上。通過第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部接合第一電子組件與第二電子組件,以使第一電子組件與第二電子組件電性連接。進(jìn)行接合后第一有機(jī)高分子層與第二有機(jī)高分子層擴(kuò)散至第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部內(nèi)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部為金屬對金屬接合。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的第一有機(jī)高分子層與第二有機(jī)高分子層的形成方法為使用有機(jī)高分子溶液對第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部進(jìn)行濕工藝。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的進(jìn)行濕工藝的步驟包括而不限于將第一導(dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部浸泡至有機(jī)高分子溶液中或?qū)Φ谝粚?dǎo)電接合部與第二導(dǎo)電接合部噴灑有機(jī)高分子溶液。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的當(dāng)?shù)谝粚?dǎo)電接合部的材料與第二導(dǎo)電接合部的材料為銅時(shí),有機(jī)高分子溶液包括而不限于具有含氮的官能基、含硫的官能基或其組合的化合物。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的進(jìn)行接合前有機(jī)高分子層的厚度至少小于2微米。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的進(jìn)行接合前第一有機(jī)高分子層完全覆蓋第一導(dǎo)電接合部的裸露表面以及第二有機(jī)高分子層完全覆蓋第二導(dǎo)電接合部的裸露表面。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的當(dāng)進(jìn)行接合時(shí)第一有機(jī)高分子層的量與第二有機(jī)高分子層的量逐漸減少。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的第一有機(jī)高分子層的材料與第二有機(jī)高分子層的材料相同。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的第一有機(jī)高分子層的材料與第二有機(jī)高分子層的材料不具有導(dǎo)電性。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的第一電子組件與第二電子組件通過熱壓合工藝進(jìn)行接合。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的第一有機(jī)高分子層進(jìn)一步形成于第一電子組件相對于第一導(dǎo)電接合部的表面上且第二有機(jī)高分子層進(jìn)一步形成于第二電子組件相對于第二導(dǎo)電接合部的表面上。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,一種電子元件的接合結(jié)構(gòu),包括而不限于第一電子組件以及第二電子組件。第一電子組件包括而不限于第一導(dǎo)電接合部。第二電子組件包括而不限于第二導(dǎo)電接合部。第二導(dǎo)電接合部接合于第一導(dǎo)電接合部,以使第一電子組件與第二電子組件電性連接。第一導(dǎo)電接合部與所述第二導(dǎo)電接合部內(nèi)的晶粒具有細(xì)微化晶粒分布的結(jié)構(gòu)。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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