[發明專利]一種化學材料氣相沉積裝置

有效

• 申請號: 202010889346.7
• 申請日: 2020-08-28
• 公開（公告）號: CN112144040B
• 公開（公告）日: 2023-02-24
• 發明（設計）人: 趙俊英
• 申請（專利權）人: 隴東學院
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/455
• 代理公司: 安徽濰達知識產權代理事務所(普通合伙) 34166
• 代理人: 張蘭

本發明公開了一種化學材料氣相沉積裝置，包括底座、加熱棒、排氣管、氣泵、進步電機和分流管，所述底座的上表面固定安裝有加熱反應室、氣泵和沉積室，且加熱反應室的內壁底部固定連接有加熱棒，并且加熱反應室的側壁上固定連接有輸氣管，所述排氣管的端部分別與加熱反應室、氣泵和沉積室固定連接，且加熱反應室與沉積室之間固定連接有連接管，并且連接管貫穿沉積室的側壁設置。該化學材料氣相沉積裝置，氣體反應和分子沉積兩個過程分開，減少了分子沉積步驟中氣體的混雜程度，有利于分子的快速沉積，且本裝置能夠使產物分子均勻的在工件表面沉積，并且能夠有效利用產物分子，減少產物分子的浪費。

技術領域

本發明涉及氣相沉積技術領域，具體為一種化學材料氣相沉積裝置。

背景技術

氣相沉積裝置是一種高精度加工設備，其作用是通過提供一定的反應環境讓多種氣體之間相互反應，生成所需要的產物分子，然后再使產物分子沉積附著在工件表面，通過層層堆疊最終使加工產品成型。

然而現有的氣相沉積裝置，氣體反應和分子沉積步驟設置在同一密閉空間中，反應物氣體和生成物氣體混雜，不利于生成物氣體分子快速在工件表面沉積，從而降低了工作效率，且生成物氣體分子難以均勻的沉積在工件表面，對產品質量產生不利影響，不能夠高效利用生成物氣體分子造成浪費。針對上述問題，急需在原有氣相沉積裝置的基礎上進行創新設計。

發明內容

本發明的目的在于提供一種化學材料氣相沉積裝置，以解決上述背景技術提出現有的氣相沉積裝置，氣體反應和分子沉積步驟設置在同一密閉空間中，反應物氣體和生成物氣體混雜，不利于生成物氣體分子快速在工件表面沉積，從而降低了工作效率，且生成物氣體分子難以均勻的沉積在工件表面，對產品質量產生不利影響，不能夠高效利用生成物氣體分子造成浪費的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種化學材料氣相沉積裝置，包括底座、加熱棒、排氣管、氣泵、進步電機和分流管，所述底座的上表面固定安裝有加熱反應室、氣泵和沉積室，且加熱反應室的內壁底部固定連接有加熱棒，并且加熱反應室的側壁上固定連接有輸氣管，所述排氣管的端部分別與加熱反應室、氣泵和沉積室固定連接，且加熱反應室與沉積室之間固定連接有連接管，并且連接管貫穿沉積室的側壁設置，所述沉積室的側面活動安裝有密封門，且沉積室的內壁上活動安裝有螺紋桿，并且螺紋桿的一端貫穿沉積室的側壁設置，而且螺紋桿的端部固定安裝在進步電機的輸出軸上，所述進步電機固定安裝在固定支架上，且固定支架固定連接在底座的頂部，所述分流管的端部與連接管的端部固定連接，且分流管的底端與沉積噴頭的頂部固定連接，所述沉積噴頭的頂部固定安裝在滑動塊的底部，且滑動塊活動安裝在橫梁上，并且滑動塊與螺紋桿活動連接，而且橫梁的兩端固定安裝在沉積室的內壁上，同時沉積室的側壁上固定連接有承載板。

優選的，所述加熱棒設置在加熱反應室的內壁中心處，且加熱反應室上安裝的連接管與輸氣管的高度不同，連接管的安裝位置更高。

優選的，所述連接管為不銹鋼金屬軟管，且連接管固定連接的分流管為陶瓷材質。

優選的，所述分流管上等間距設置有4個支管，且分流管上的4個支管的直徑不同，從左往右支管的直徑遞減。

優選的，所述沉積噴頭的底部噴口為“倒三角形”結構，且沉積噴頭的噴口角度為50°。

優選的，所述螺紋桿與滑動塊之間為螺紋連接，且螺紋桿上設置的圓盤與沉積室側壁內部的卡槽構成轉動的卡合結構。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：該化學材料氣相沉積裝置，氣體反應和分子沉積兩個過程分開，減少了分子沉積步驟中氣體的混雜程度，有利于分子的快速沉積，且本裝置能夠使產物分子均勻的在工件表面沉積，并且能夠有效利用產物分子，減少產物分子的浪費；

1、通過分別設置加熱反應室和沉積室，將氣體反應和分子沉積兩個過程分開，利用加熱反應室內部的加熱棒提供反應物氣體所需的反應溫度，當反應物氣體充分反應生成產物氣體時，產物氣體經由設置在高位的連接管，進入沉積室中開始進行；