[發(fā)明專利]掩膜版及蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010880995.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112176282B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-02-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張浩瀚;李慧;劉明星;甘帥燕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 廣東君龍律師事務(wù)所 44470
• 代理人: 丁建春

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N掩膜版和蒸鍍裝置，該掩膜版包括：框架；多個(gè)支撐條和多個(gè)掩膜條，平行間隔設(shè)置于框架的第一表面，且相鄰支撐條之間設(shè)置有一個(gè)掩膜條；其中，支撐條遠(yuǎn)離框架一側(cè)表面的面積小于其靠近框架一側(cè)表面的面積；掩膜條遠(yuǎn)離框架一側(cè)表面的面積大于其靠近框架一側(cè)表面的面積；支撐條鄰近掩膜條的邊緣設(shè)置有第一臺(tái)階部，第一臺(tái)階部包括與第一表面平行的第一臺(tái)階面；掩膜條鄰近支撐條的邊緣設(shè)置有第二臺(tái)階部，第二臺(tái)階部包括與第一表面平行的第二臺(tái)階面；第二臺(tái)階面與第一臺(tái)階面搭接，且支撐條遠(yuǎn)離框架的一側(cè)表面高于掩膜條。通過(guò)上述方式，本申請(qǐng)可以使得在蒸鍍對(duì)位過(guò)程中待蒸鍍基板不會(huì)直接壓到掩膜條。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種掩膜版及蒸鍍裝置。

背景技術(shù)

目前OLED顯示面板市場(chǎng)向著成熟化方向發(fā)展，各大OLED顯示面板制造公司的制造良率已經(jīng)成為公司競(jìng)爭(zhēng)力的最重要因素之一。OLED顯示面板的發(fā)光層在制備過(guò)程中一般會(huì)引入掩膜版來(lái)蒸鍍發(fā)光物質(zhì)。在蒸鍍開(kāi)始前，待蒸鍍基板需要反復(fù)進(jìn)行上升和下降過(guò)程，以使得掩膜版的掩膜條與待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域精確對(duì)位。

如圖1所示，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中待蒸鍍基板與掩膜版對(duì)位一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。在對(duì)位過(guò)程中，由于待蒸鍍基板30的下垂量大于掩膜版32中掩膜條320的下垂量，待蒸鍍基板30在下降至與掩膜版32貼合時(shí)，待蒸鍍基板30會(huì)直接壓到掩膜條320。此時(shí)，待蒸鍍基板上的各個(gè)顯示面板300的像素定義層或間隔件(未標(biāo)示)會(huì)受到較大的壓應(yīng)力，多次對(duì)位過(guò)程可能會(huì)使像素定義層或間隔件受到反復(fù)擠壓而被損傷形成尖角，進(jìn)而影響后續(xù)封裝過(guò)程，嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成封裝失效導(dǎo)致產(chǎn)生多個(gè)暗點(diǎn)等情況。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N掩膜版及蒸鍍裝置，以使得在蒸鍍對(duì)位過(guò)程中待蒸鍍基板不會(huì)直接壓到掩膜條。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種掩膜版，包括：框架；多個(gè)支撐條和多個(gè)掩膜條，平行間隔設(shè)置于所述框架的第一表面上，且相鄰所述支撐條之間設(shè)置有一個(gè)所述掩膜條；其中，所述支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積小于其靠近所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積；所述掩膜條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積大于其靠近所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積；所述支撐條鄰近所述掩膜條的邊緣設(shè)置有第一臺(tái)階部，所述第一臺(tái)階部包括與所述第一表面平行的第一臺(tái)階面；所述掩膜條鄰近所述支撐條的邊緣設(shè)置有第二臺(tái)階部，所述第二臺(tái)階部包括與所述第一表面平行的第二臺(tái)階面；所述第二臺(tái)階面與所述第一臺(tái)階面搭接，且所述支撐條遠(yuǎn)離所述框架的一側(cè)表面高于所述掩膜條。

其中，所述支撐條包括：第一子支撐條，設(shè)置于所述第一表面上；第二子支撐條，至少部分位于所述第一子支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)，且所述第二子支撐條的寬度小于所述第一子支撐條的寬度，所述第一子支撐條靠近所述第二子支撐條的表面包括所述第一臺(tái)階面。

其中，位于所述第一子支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)的所述第二子支撐條的部分的高度大于所述掩膜條的厚度。

其中，在所述第一子支撐條的長(zhǎng)度方向上，所述第一子支撐條與所述框架接觸的兩端分別設(shè)置有至少一個(gè)開(kāi)口，所述框架對(duì)應(yīng)所述開(kāi)口的位置設(shè)置有凸部，所述凸部的高度大于等于所述開(kāi)口的深度，所述第二子支撐條與所述凸部固定連接。

其中，所述凸部的高度與所述開(kāi)口的深度之間具有第一差值，所述第二子支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面與所述掩膜條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面之間具有第二差值，所述第一差值小于所述第二差值。

其中，在所述第一子支撐條的長(zhǎng)度方向上，所述第一子支撐條對(duì)應(yīng)所述第二子支撐條的位置具有凹槽，至少部分所述第二子支撐條填充所述凹槽。

其中，所述凹槽貫通所述第一子支撐條，所述第二子支撐條在長(zhǎng)度方向上的兩端與所述框架固定。其中，所述第二子支撐條在長(zhǎng)度方向上的兩端和所述框架一體成型。