[發(fā)明專(zhuān)利]掩膜版及蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010880995.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112176282B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-02-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張浩瀚;李慧;劉明星;甘帥燕
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 廣東君龍律師事務(wù)所 44470
• 代理人: 丁建春

1.一種掩膜版，其特征在于，包括：

框架；

多個(gè)支撐條和多個(gè)掩膜條，平行間隔設(shè)置于所述框架的第一表面，且相鄰所述支撐條之間設(shè)置有一個(gè)所述掩膜條；

其中，所述支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積小于其靠近所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積；所述掩膜條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積大于其靠近所述框架一側(cè)表面在所述第一表面上的正投影的面積；

所述支撐條鄰近所述掩膜條的邊緣設(shè)置有第一臺(tái)階部，所述第一臺(tái)階部包括與所述第一表面平行的第一臺(tái)階面；所述掩膜條鄰近所述支撐條的邊緣設(shè)置有第二臺(tái)階部，所述第二臺(tái)階部包括與所述第一表面平行的第二臺(tái)階面；所述第二臺(tái)階面與所述第一臺(tái)階面搭接，且所述支撐條遠(yuǎn)離所述框架的一側(cè)表面高于所述掩膜條；

所述支撐條包括：

第一子支撐條，設(shè)置于所述第一表面上；

第二子支撐條，至少部分位于所述第一子支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)，且所述第二子支撐條的寬度小于所述第一子支撐條的寬度，所述第一子支撐條靠近所述第二子支撐條的表面包括所述第一臺(tái)階面；

在所述第一子支撐條的長(zhǎng)度方向上，所述第一子支撐條與所述框架接觸的兩端分別設(shè)置有至少一個(gè)開(kāi)口，所述框架對(duì)應(yīng)所述開(kāi)口的位置設(shè)置有凸部，所述凸部的高度大于等于所述開(kāi)口的深度，所述第二子支撐條與所述凸部固定連接；或；

在所述第一子支撐條的長(zhǎng)度方向上，所述第一子支撐條對(duì)應(yīng)所述第二子支撐條的位置具有凹槽，至少部分所述第二子支撐條填充所述凹槽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

位于所述第一子支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)的所述第二子支撐條的部分的高度大于所述掩膜條的厚度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，當(dāng)在所述第一子支撐條的長(zhǎng)度方向上，所述第一子支撐條與所述框架接觸的兩端分別設(shè)置有至少一個(gè)開(kāi)口，所述框架對(duì)應(yīng)所述開(kāi)口的位置設(shè)置有凸部，所述凸部的高度大于等于所述開(kāi)口的深度，所述第二子支撐條與所述凸部固定連接時(shí)，

所述凸部的高度與所述開(kāi)口的深度之間具有第一差值，所述第二子支撐條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面與所述掩膜條遠(yuǎn)離所述框架一側(cè)表面之間具有第二差值，所述第一差值小于所述第二差值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，當(dāng)在所述第一子支撐條的長(zhǎng)度方向上，所述第一子支撐條對(duì)應(yīng)所述第二子支撐條的位置具有凹槽，至少部分所述第二子支撐條填充所述凹槽時(shí)，

所述凹槽貫通所述第一子支撐條，所述第二子支撐條在長(zhǎng)度方向上的兩端與所述框架固定。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜版，其特征在于，

所述第二子支撐條在長(zhǎng)度方向上的兩端和所述框架一體成型。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一臺(tái)階部包括與所述第一臺(tái)階面相交的第一側(cè)壁，相鄰所述第一側(cè)壁之間的距離大于位于相鄰所述第一側(cè)壁之間的所述掩膜條的寬度。

7.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的掩膜版。