[發(fā)明專利]一種低方阻透明導(dǎo)電膜

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010880225.6
• 申請(qǐng)日: 2020-08-27
• 公開（公告）號(hào): CN111883287A
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂敬波;于佩強(qiáng);陳超;胡業(yè)新
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇日久光電股份有限公司
• 主分類號(hào): H01B5/14
• 分類號(hào): H01B5/14
• 代理公司: 蘇州科仁專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32301
• 代理人: 郭楊

本發(fā)明公開了一種低方阻透明導(dǎo)電膜，包括由下往上層疊設(shè)置的透明基材、折射率匹配層、過渡層、金屬合金層和透明導(dǎo)電層，在透明基材與金屬合金層之間增加了一個(gè)由折射率匹配層與過渡層二者共同組合成的基材側(cè)的水氧阻隔層，其中過渡層的目的是給上層的金屬合金層提供一個(gè)致密連續(xù)的導(dǎo)電層襯底，減少薄層金屬的島狀不連續(xù)現(xiàn)象，其與高折射率材料制成的折射率匹配層共同組合成基材側(cè)的水氧阻隔層后，有效防止金屬合金層在使用過程中劣化，使整體導(dǎo)電膜可靠性耐候性大幅提高。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及導(dǎo)電膜領(lǐng)域，尤其涉及一種低方阻透明導(dǎo)電膜。

背景技術(shù)

近年來，隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)及光伏技術(shù)突飛猛進(jìn)的發(fā)展，諸如平面顯示器、觸控屏、窗膜、聚合物分散液晶、太陽能電池等技術(shù)迅速發(fā)展和完善，這些新技術(shù)都需要用到透明導(dǎo)電膜作為電極、受光面或者電磁脈沖屏蔽膜。以觸控屏為例，觸控屏中常用的幾種類型如電阻式觸控屏、表面電容式觸控屏、感應(yīng)電容式觸控屏都需要利用透明導(dǎo)電膜作為電極材料。

透明導(dǎo)電膜公認(rèn)的定義為在可見光范圍為透明的，并且具有較低的電阻率。目前常用的透明導(dǎo)電膜有ITO(氧化錫與氧化銦的混合物)膜、AZO(摻鋁氧化鋅)膜以及氧化鋁等。

經(jīng)文獻(xiàn)檢索發(fā)現(xiàn)，1998年M.Bender和W.Seelig等人在《Thin solidFilms》第326(1998)67-71上撰文“Dependence of film composition and thickness on optical andelectrical properties of ITO-metal-ITO multilayers(ITO-金屬-ITO多層膜光電性能與其膜厚及組成的關(guān)系)”，該問題出ITO/AG/ITO(I/M/I)多層膜取代單一的ITO膜，企圖獲得更好的導(dǎo)電性能和更低的成本。但這種三明治結(jié)構(gòu)的光電性能沒能達(dá)到人們的期望值。之后上海交通大學(xué)的一個(gè)課題組提出了電介質(zhì)層/金屬層/電介質(zhì)層的三明治結(jié)構(gòu)，具有良好的導(dǎo)電性和較低的電阻。但這種結(jié)構(gòu)的膜仍具有較厚的厚度，在柔性基材PET上易脫落，附著性差，且暴露在空氣中，組織不穩(wěn)定，抗氧化能力差且耐候性測(cè)試500h，數(shù)據(jù)較差。

例如以目前行業(yè)內(nèi)成熟的ITO制作的方阻為15歐姆左右的上述導(dǎo)電膜為例，ITO厚度大約130nm以上，厚度導(dǎo)致彎折性變差，導(dǎo)致柔性基材基本不能使用的狀況。

例如以目前行業(yè)內(nèi)成熟的ITO制作的方阻為15歐姆左右的上述導(dǎo)電膜為例，ITO厚度大約130nm以上，厚度導(dǎo)致彎折性變差，導(dǎo)致柔性基材基本不能使用的狀況。銀疊層導(dǎo)電膜成功的解決了這一問題，并在成本上會(huì)有下降。缺點(diǎn)是銀疊層導(dǎo)電膜耐候性以及透過率會(huì)比ITO稍差。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明目的是：提供一種耐候性以及透過率更好的低方阻透明導(dǎo)電膜，以彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)在這一塊的不足。

本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明公開的一種低方阻透明導(dǎo)電膜，包括由下往上層疊設(shè)置的透明基材、折射率匹配層、過渡層、金屬合金層和透明導(dǎo)電層，

其中所述折射率匹配層為硫化鋅層、五氧化二鈮層、二氧化鈦層、氧化鋅層或者氧化鋅混合層，厚度為15～50nm，

所述過渡層為氧化鎂、氧化鎵和氧化鋁中的至少一種與氧化鋅混合的氧化鋅混合層，厚度為3～15nm。

在某些實(shí)施方式中，所述折射率匹配層為五氧化二鈮層，厚度為35nm。

在某些實(shí)施方式中，所述過渡層為氧化鋅鎂層、氧化鋅鎵層或氧化鋅鋁層。

在某些實(shí)施方式中，所述過渡層為氧化鋅鎂層，厚度為6nm。

在某些實(shí)施方式中，所述透明基材層的材料為PI、PET、PC、COP和玻璃中的一種，厚度為0.005～1μm，并且當(dāng)材料為PET或PC時(shí)，上下表面做加硬處理。