[發明專利]一種上料裝置及其控制系統

有效

• 申請號: 202010878864.9
• 申請日: 2020-08-27
• 公開（公告）號: CN111908025B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: 夏洪波;章峻銘
• 申請（專利權）人: 臺州市瑞達機械有限公司
• 主分類號: B65G15/48
• 分類號: B65G15/48;B65G15/58;B65G47/22;B65G47/90;B65G43/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種上料裝置控制系統，包括機架(1)、傳輸帶(2)以及驅動傳輸帶(2)傳動的驅動機構(3)，所述傳輸帶(2)為金屬傳輸帶，所述機架(1)設有取件位(4)，所述取件位(4)靠近傳輸帶(2)的端部，所述機架(1)設有導向板(5)以及定位板(6)，所述導向板(5)于傳輸帶(2)的兩側均設置有一塊，兩塊所述導向板(5)相對的兩側壁用于與工件的背向兩側壁相貼對其進行導向，所述定位板(6)靠近傳輸帶(2)的端部以用于與工件沿傳輸方向的端部相抵將其準確限制在取件位(4)上，還包括：

上料檢測模塊(a)，固定于機架(1)上用于檢測傳輸帶(2)起始端的工件是否放置就位并根據檢測結果輸出上料檢測電平信號；

處理控制模塊(b)，耦接于所述上料檢測模塊(a)以接收上料檢測電平信號輸出第一控制信號；

延時執行模塊(c)，耦接于所述處理控制模塊(b)以接收第一控制信號做出驅動驅動機構(3)運行并維持其在第一預設時間段內持續運轉的響應以將工件傳輸入取件位(4)；

下料狀態檢測模塊(d)，設置于機架(1)上并與處理控制模塊(b)耦接，用于對傳輸帶(2)下料處的工件進行檢測輸出下料狀態信號；

以及壓力檢測模塊(h)，設置于機架(1)上以對下料處的壓力進行檢測以輸出壓力檢測電平信號；

所述處理控制模塊(b)接收下料狀態信號，根據其電平變化輸出相應的第二控制信號，以供延時執行模塊(c)接收，做出控制驅動機構(3)運行動作的響應；所述處理控制模塊(b)與壓力檢測模塊(h)耦接，以接收壓力檢測電平信號并根據壓力檢測電平信號的變化輸出第四控制信號，延時執行模塊(c)接收第四控制信號做出控制驅動機構(3)在第二預設時間段內反向運行的響應；處理控制模塊(b)，用于在機械手夾取工件導致壓力檢測模塊(h)檢測的壓力下降時控制延時執行模塊(c)驅動驅動機構(3)反向運動。

2.根據權利要求1所述的一種上料裝置控制系統，其特征在于：所述下料狀態檢測模塊(d)對應傳輸帶(2)設有多個，每個所述下料狀態檢測模塊(d)均耦接有定時模塊(e)，所述定時模塊(e)用于接收下料狀態信號以輸出定時信號，所述定時模塊(e)與處理控制模塊(b)耦接，所述處理控制模塊(b)耦接有無線發射模塊(f)，所述處理控制模塊(b)用于接收定時信號并與其內部預設基準值進行比對以輸出第三控制信號，所述無線發射模塊(f)接收第三控制信號并發出無線信號以切換外部相適配機械手(9)的工作模式。

3.根據權利要求2所述的一種上料裝置控制系統，其特征在于，還包括：

燈光指示模塊(g)，固定設置在機架(1)上，耦接于所述定時模塊(e)以接收定時信號做出燈光指示響應。