[發(fā)明專利]一種刻蝕出料翻片裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010878218.2 | 申請日: | 2020-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN111916382A | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 于彬;李昂;唐光明 | 申請(專利權(quán))人: | 常州科瑞爾科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677;H01L21/683;H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南通毅帆知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32386 | 代理人: | 劉紀(jì)紅 |
| 地址: | 213000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 刻蝕 出料翻片 裝置 | ||
1.一種刻蝕出料翻片裝置,其特征在于:包括機架(1)、傳送單元(2)、翻轉(zhuǎn)單元(3)、滑片接收盒(4)、從動帶輪(5)、傳動軸(6)、同步齒形帶(7)、電機安裝座(8)、主動帶輪(9)和驅(qū)動電機(10),所述的電機安裝座(8)固定安裝在機架(1)內(nèi),所述的驅(qū)動電機(10)安裝在電機安裝座(8)上,所述的主動帶輪(9)固定安裝在驅(qū)動電機(10)輸出軸上,所述的機架(1)頂面沿左右方向等間距安裝有若干個傳送單元(2)且每個傳送單元(2)前側(cè)都安裝有翻轉(zhuǎn)單元(3),所述的翻轉(zhuǎn)單元(3)安裝在機架(1)頂面上,所述的滑片接收盒(4)固定安裝在機架(1)頂面上且滑片接收盒(4)位于翻轉(zhuǎn)單元(3)的前側(cè),所述的傳動軸(6)安裝在傳送單元(2)上,所述的從動帶輪(5)固定安裝在傳動軸(6)右端,所述的同步齒形帶(7)安裝在從動帶輪(5)和主動帶輪(9)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕出料翻片裝置,其特征在于:所述的傳送單元(2)由基座(201)、前托板(202)、前惰輪(203)、前傳送帶(204)、后傳送帶(205)、后托板(206)、后驅(qū)動輪(207)、軸承座(208)、前驅(qū)動輪(209)和后惰輪(210)組成,所述的基座(201)固定安裝在機架(1)頂面上,所述的前驅(qū)動輪(209)固定安裝在傳動軸(6)上且前驅(qū)動輪(209)位于基座(201)前側(cè),所述的基座(201)前側(cè)面上安裝有若干個前惰輪(203),所述的前傳送帶(204)依次安裝在前惰輪(203)和前驅(qū)動輪(209)上,所述的前托板(202)固定安裝在基座(201)前側(cè)面上,所述的軸承座(208)固定安裝在基座(201)上且傳動軸(6)通過軸承安裝在軸承座(208)上,所述的后驅(qū)動輪(207)固定安裝在傳動軸(6)上且后驅(qū)動輪(207)位于基座(201)后側(cè),所述的基座(201)后側(cè)面上安裝有若干個后惰輪(210),所述的后傳送帶(205)依次安裝在后驅(qū)動輪(207)和后惰輪(210)上,所述的后托板(206)固定安裝在基座(201)后側(cè)面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕出料翻片裝置,其特征在于:所述的翻轉(zhuǎn)單元(3)由吸盤固定臂(301)、方形吸盤(302)、減速器支架(303)、固定板(304)、伺服電機(305)、減速器(306)、感應(yīng)支架(307)、接近開關(guān)(308)和傳感器安裝架(309)組成,所述的減速器支架(303)固定安裝在固定板(304)上,所述的固定板(304)固定安裝在機架(1)頂面上,所述的伺服電機(305)安裝在減速器(306)上,所述的減速器(306)安裝在減速器支架(303)上,所述的吸盤固定臂(301)和感應(yīng)支架(307)都固定安裝在減速器(306)輸出軸上,所述的方形吸盤(302)固定安裝在吸盤固定臂(301),所述的傳感器安裝架(309)固定安裝在減速器支架(303)上,所述的接近開關(guān)(308)固定安裝在傳感器安裝架(309)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕出料翻片裝置,其特征在于:所述的傳送單元(2)中的基座(201)左右對稱面與翻轉(zhuǎn)單元(3)中的方形吸盤(302)左右對稱面重合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕出料翻片裝置,其特征在于:所述的翻轉(zhuǎn)單元(3)中的吸盤固定臂(301)設(shè)有進氣孔和排氣孔且進氣孔和排氣孔上都安裝有快速接頭。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





