[發(fā)明專利]用于減少因曝光不均勻所導(dǎo)致的布局失真的方法與系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010876357.1 | 申請日： | 2020-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN112445081A | 公開（公告）日： | 2021-03-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陸埼達(dá);廖家輝;林宜弘;蔡啟銘 | 申請（專利權(quán)）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人： | 李春秀 |
| 地址： | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 減少 曝光 不均勻 導(dǎo)致 布局 失真 方法 系統(tǒng) | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種方法，其包括：
接收設(shè)計布局，包括所述設(shè)計布局的外圍區(qū)域中的特征；
根據(jù)工件的曝光場中的曝光分布確定與所述外圍區(qū)域相關(guān)聯(lián)的第一補償值；及
通過根據(jù)所述補償值修改所述特征的形狀來調(diào)整所述設(shè)計布局。
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
