[發明專利]面源黑體用涂料與面源黑體及其制備方法

有效

• 申請號: 202010872080.5
• 申請日: 2020-08-26
• 公開（公告）號: CN111995888B
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 鄭東輝;陳潔;陳鴻武
• 申請（專利權）人: 浙江大華技術股份有限公司
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D7/61;G21G4/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 劉亞威

本申請涉及黑體材料領域，公開一種面源黑體用涂料與面源黑體及其制備方法。該面源黑體用涂料，包括無機粉料，其中，以無機粉料的總重的重量百分比計包括以下原料：MgO 1％?15％、Cr₂O₃ 35％?55％、MnO₂ 0.5％?8％、NiO 0.5％?8％、SiC 1％?20％和TiO₂ 1％?15％。利用該涂料制備的面源黑體，其發射率可達到0.98以上。

技術領域

本申請涉及黑體材料領域，特別涉及一種面源黑體用涂料與面源黑體及其制備方法。

背景技術

面源黑體作為紅外譜段的標準輻射源，廣泛應用于紅外遙感器、熱像儀的標定中。隨著紅外技術的發展，其應用越來越廣泛，溫度范圍進一步擴展。

傳統面源黑體的發射率一般在0.95-0.97之間，為了提高面源黑體的發射率，可以通過改善面源黑體的結構以及涂料以達到提高面源黑體發射率的目的。通過改變面源黑體的結構的方式改善其發射率的方法，通常加工工藝比較困難，良率較低。為了便于生產和提高生產良率，一般通過在面源黑體表面涂覆涂料的方法較為普遍，但是現有的用于面源黑體的涂層，將其應用于面源黑體后，能夠將面源黑體的發射率提高到0.93左右，因此，目前的涂料還無法滿足對發射率有更高要求的面源黑體的要求。

發明內容

本申請公開了一種面源黑體用涂料與面源黑體及其制備方法，利用該涂料制備的面源黑體，其發射率可達到0.98以上。

為達到上述目的，本申請提供以下技術方案：

一種面源黑體用涂料，包括無機粉料，其中，以所述無機粉料的總重的重量百分比計包括以下原料：MgO 1％-15％、Cr₂O₃ 35％-55％、MnO₂ 0.5％-8％、 NiO 0.5％-8％、SiC1％-20％和TiO₂ 1％-15％。

進一步地，以所述無機粉料的總重的重量百分比計包括以下原料：MgO 3％-13％、Cr₂O₃ 38％-50％、MnO₂ 0.8％-6％、NiO 0.8％-6％、SiC 1％-15％和 TiO₂ 1％-12％。

一種面源黑體的制備方法，包括：

在經過表面微孔處理的基板表面涂覆上述涂料，在150-220℃下干燥處理后，得到所述面源黑體。

進一步地，干燥處理中的溫度為150-200℃。

進一步地，經過微孔處理后的所述基板的表面粗糙度為6-15.5um。

進一步地，所述表面微孔處理的方法包括激光微加工法、倒扣法或噴砂法。

進一步地，所述表面微孔處理的方法為噴砂法，噴砂處理中采用的金剛石的目數為20-50目。

進一步地，先對經過表面微孔處理的基板進行氧化處理，再在所述基板表面涂覆所述涂料。

進一步地，對所述基板進行氧化處理后，先對所述基板進行著色處理，再在所述基板表面涂覆所述涂料。

進一步地，涂覆所述涂料后所得涂層的厚度為10-70um。

一種面源黑體，根據本申請的制備方法得到。

進一步地，所述面源黑體的發射率大于0.98。

采用本申請的技術方案，產生的有益效果如下：