[發明專利]面源黑體用涂料與面源黑體及其制備方法

有效

• 申請號: 202010872080.5
• 申請日: 2020-08-26
• 公開（公告）號: CN111995888B
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 鄭東輝;陳潔;陳鴻武
• 申請（專利權）人: 浙江大華技術股份有限公司
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D7/61;G21G4/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 劉亞威

1.一種面源黑體，其特征在于，包括基板和涂覆于所述基板表面的涂料，所述基板為經過微孔處理的基板，所述基板的表面粗糙度為6-15.5um；

所述涂料包括無機粉料，其中，以所述無機粉料的總重的重量百分比計包括以下原料：MgO 1％-15％、Cr₂O₃ 35％-55％、MnO₂ 0.5％-8％、NiO 0.5％-8％、SiC 1％-20％和TiO₂1％-15％。

2.根據權利要求1所述的面源黑體，其特征在于，以所述無機粉料的總重的重量百分比計包括以下原料：MgO 3％-13％、Cr₂O₃ 38％-50％、MnO₂0.8％-6％、NiO 0.8％-6％、SiC1％-15％和TiO₂ 1％-12％。

3.一種如權利要求1或2所述的面源黑體的制備方法，其特征在于，包括：

在經過表面微孔處理的基板表面涂覆如權利要求1或2中所述的涂料，在150-220℃下干燥處理后，得到所述面源黑體。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，經過微孔處理后的所述基板的表面粗糙度為6-15.5um。

5.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述表面微孔處理的方法包括激光微加工法、倒扣法或噴砂法。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述表面微孔處理的方法為噴砂法，噴砂處理中采用的金剛石的目數為20-50目。

7.根據權利要求3-6任一項所述的制備方法，其特征在于，先對經過表面微孔處理的基板進行氧化處理，再在所述基板表面涂覆所述涂料。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，對所述基板進行氧化處理后，先對所述基板進行著色處理，再在所述基板表面涂覆所述涂料。

9.根據權利要求3-6任一項所述的制備方法，其特征在于，涂覆所述涂料后所得涂層的厚度為10-70um。

10.一種面源黑體，其特征在于，根據權利要求3-9任一項所述的制備方法得到。