[發明專利]一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置有效
| 申請號: | 202010871413.2 | 申請日: | 2020-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN111807569B | 公開(公告)日: | 2023-02-03 |
| 發明(設計)人: | 徐艷艷;鄭曉陽;師月云;田慧娟;王明陸;趙恒章;張為宏;劉曉利 | 申請(專利權)人: | 焦作市華康糖醇科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/00 | 分類號: | C02F9/00;C02F101/30;C02F1/78;C02F1/52 |
| 代理公司: | 鄭州銀河專利代理有限公司 41158 | 代理人: | 嚴艷麗 |
| 地址: | 454950*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 廢水處理 過程 氧化 沉淀 裝置 | ||
本發明提供一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置,包括氧化池、絮凝池,所述氧化池內設置臭氧加入機構,所述氧化池的邊沿設置溢流槽,所述溢流槽與絮凝池連通,所述絮凝池內設置絮凝劑添加機構,所述絮凝池上對應溢流槽設置緩沖機構,所述絮凝池的底部設置清理機構,所述絮凝池的邊沿設置出水機構,所述出水機構上設置過濾機構,所述過濾機構上設置表面清理機構。本發明可以提高氧化池內的臭氧使用效率,同時保證絮凝池內的振動較小,利于絮凝物的沉淀,加快廢水的沉淀速度。
技術領域
本發明涉及廢水處理技術領域,具體涉及一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置。
背景技術
現有工程污水處理系統包括兩部分,一是常規處理系統,二是深度處理。深度處理的過程為二沉池出水進入氧化池,先加入強氧化劑,再添加絮凝藥劑去除水中大部分SS、COD,而后通過沉淀池自然沉淀去除SS后在廢水添加高級氧化試劑,依靠高級氧化試劑的強氧化能力將廢水中殘留的難以降解的有機物徹底降解為水和二氧化碳,從而達到去除COD和色度的目的。
在前氧化及混凝沉淀工段,生化出水經二沉池自然沉淀后,只能去除水中部分可自然沉降得懸浮物,但是水體中仍有眾多不穩定的難沉降懸浮物,二沉池出水進入氧化池首先加入強氧化劑,依靠氧化劑的強氧化能力將廢水中的有機物降解為水和二氧化碳,再加入絮凝劑,借助絮凝劑的吸附等物理化學作用,增大絮體、改善絮體電荷,從而去除水中大部分懸浮物與色度。
該過程中依靠沉淀來去除絮凝物,但是一直有進水引起水面以及上部的振動,導致沉淀效率低和時間長的問題,且臭氧加入與廢水的反應效率較低。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置,可以提高氧化池內的臭氧使用效率,同時保證絮凝池內的振動較小,利于絮凝物的沉淀。
為解決上述技術問題,本發明提供一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置,包括氧化池、絮凝池,所述氧化池內設置臭氧加入機構,所述氧化池的邊沿設置溢流槽,所述溢流槽與絮凝池連通,所述絮凝池內設置絮凝劑添加機構,所述絮凝池上對應溢流槽設置緩沖機構,所述絮凝池的底部設置清理機構,所述絮凝池的邊沿設置出水機構,所述出水機構上設置過濾機構,所述過濾機構上設置表面清理機構。
進一步的,所述臭氧加入機構包括氧化池底部設置的供氣管,所述供氣管端部設置分支管,所述分支管上設置出氣孔,所述出氣孔上設置第一霧化噴頭。
進一步的,所述絮凝劑添加機構包括絮凝池的兩側設置的軌道,所述軌道上設置行走機構,所述行走機構上設置工作臺,所述工作臺下端設置噴灑管,所述噴灑管上設置噴灑孔,所述噴灑孔上設置第二霧化噴頭,所述工作臺上設置存儲罐,所述存儲罐內設置液態絮凝劑,所述存儲罐的底部通過供液管道與噴灑管連通,所述存儲罐的頂部通過壓力管道與氣泵連通,所述氣泵設置在工作臺上。
進一步的,所述軌道包括設置在絮凝池兩側的滑槽,所述行走機構包括滑槽上設置的底座,所述底座的下方設置與滑槽配合的行走輪,所述底座上設置驅動行走輪的行走電機。
進一步的,所述緩沖機構包括絮凝池側壁在溢流槽開口下方設置的上U型框和下U型框,所述上U型框與下U型框之間設置多個柔性帶體。
進一步的,所述清理機構包括絮凝池底部設置的集泥斗。
進一步的,所述出水機構包括絮凝池側面設置的溢出槽,所述溢出槽上設置所述過濾機構,所述過濾機構包括絮凝池側面設置的立柱,所述立柱上設置伸縮橫桿,所述伸縮橫桿上向下設置伸縮機構,所述伸縮機構下端設置框架,所述框架內設置濾網,所述溢出槽內設置與框架配合的安裝槽。
進一步的,所述表面清理機構包括伸縮橫桿上向下設置的推桿,所述推桿位于伸縮機構的兩側,所述推桿的端部向內設置彈性桿,所述彈性桿端部鉸接刮板,所述刮板與彈性桿通過扭轉彈簧傳動連接。
進一步的,所述伸縮機構和伸縮橫桿采用電動伸縮桿。
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