[發明專利]一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置

有效

• 申請號: 202010871413.2
• 申請日: 2020-08-26
• 公開（公告）號: CN111807569B
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 徐艷艷;鄭曉陽;師月云;田慧娟;王明陸;趙恒章;張為宏;劉曉利
• 申請（專利權）人: 焦作市華康糖醇科技有限公司
• 主分類號: C02F9/00
• 分類號: C02F9/00;C02F101/30;C02F1/78;C02F1/52
• 代理公司: 鄭州銀河專利代理有限公司 41158
• 代理人: 嚴艷麗

1.一種廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置，包括氧化池（1）、絮凝池（6），其特征在于：所述氧化池（1）內設置臭氧加入機構，所述氧化池（1）的邊沿設置溢流槽（2），所述溢流槽（2）與絮凝池（6）連通，所述絮凝池（6）內設置絮凝劑添加機構，所述絮凝池（6）上對應溢流槽（2）設置緩沖機構，所述絮凝池（6）的底部設置清理機構，所述絮凝池（6）的邊沿設置出水機構，所述出水機構上設置過濾機構，所述過濾機構上設置表面清理機構；所述緩沖機構包括絮凝池（6）側壁在溢流槽（2）開口下方設置的上U型框（3）和下U型框（5），所述上U型框（3）與下U型框（5）之間設置多個柔性帶體（4）；所述上U型框（3）位于水面以上，所述上U型框（3）的大小大于所述下U型框（5）的大小，所述柔性帶體（4）上寬下窄；

所述出水機構包括絮凝池（6）側面設置的溢出槽（7），所述溢出槽（7）上設置所述過濾機構，所述過濾機構包括絮凝池（6）側面設置的立柱（29），所述立柱（29）上設置伸縮橫桿（28），所述伸縮橫桿（28）上向下設置伸縮機構（27），所述伸縮機構（27）下端設置框架（30），所述框架（30）內設置濾網（31），所述溢出槽（7）內設置與框架（30）配合的安裝槽（23）；

所述表面清理機構包括伸縮橫桿（28）上向下設置的推桿（24），所述推桿（24）位于伸縮機構（27）的兩側，所述推桿（24）的端部向內設置彈性桿（25），所述彈性桿（25）端部鉸接刮板（26），所述刮板（26）與彈性桿（25）通過扭轉彈簧傳動連接。

2.如權利要求1所述的廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置，其特征在于：所述臭氧加入機構包括氧化池（1）底部設置的供氣管（8），所述供氣管（8）端部設置分支管（9），所述分支管（9）上設置出氣孔，所述出氣孔上設置第一霧化噴頭（10）。

3.如權利要求2所述的廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置，其特征在于：所述絮凝劑添加機構包括絮凝池（6）的兩側設置的軌道，所述軌道上設置行走機構，所述行走機構上設置工作臺（16），所述工作臺（16）下端設置噴灑管（17），所述噴灑管（17）上設置噴灑孔，所述噴灑孔上設置第二霧化噴頭（22），所述工作臺（16）上設置存儲罐（19），所述存儲罐（19）內設置液態絮凝劑，所述存儲罐（19）的底部通過供液管道（18）與噴灑管（17）連通，所述存儲罐（19）的頂部通過壓力管道（20）與氣泵（21）連通，所述氣泵（21）設置在工作臺（16）上。

4.如權利要求3所述的廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置，其特征在于：所述軌道包括設置在絮凝池（6）兩側的滑槽（15），所述行走機構包括滑槽（15）上設置的底座（13），所述底座（13）的下方設置與滑槽（15）配合的行走輪（14），所述底座（13）上設置驅動行走輪（14）的行走電機（12）。

5.如權利要求4所述的廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置，其特征在于：所述清理機構包括絮凝池（6）底部設置的集泥斗（11）。

6.如權利要求1所述的廢水處理過程中前氧化及混凝沉淀裝置，其特征在于：所述伸縮機構（27）和伸縮橫桿（28）采用電動伸縮桿。