[發(fā)明專(zhuān)利]一種晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法及鍍膜設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010866338.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111733399A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-10-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫越;林綱正;陳剛 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 浙江愛(ài)旭太陽(yáng)能科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/02 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/02;C23C16/44;H01J37/32;H01L21/02;H01L31/18 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 33100 | 代理人: | 金麗英 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶體 太陽(yáng)能電池 鍍膜 方法 設(shè)備 | ||
1.一種晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法,其特征在于:包括以下步驟;
步驟一,采用紫外清洗系統(tǒng)對(duì)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備的緩存?zhèn)}進(jìn)行紫外清洗;
步驟二,將退火后的硅片置于所述緩存?zhèn)}中,采用紫外清洗系統(tǒng)對(duì)所述硅片進(jìn)行紫外清洗,再對(duì)所述硅片進(jìn)行背鈍化層的制備;
步驟三,采用紫外清洗系統(tǒng)對(duì)所述緩存?zhèn)}進(jìn)行紫外清洗;
步驟四,將所述鍍完背鈍化層后的硅片置于所述緩存?zhèn)}中,采用紫外清洗系統(tǒng)對(duì)所述鍍完背鈍化層后的硅片進(jìn)行紫外清洗,再對(duì)所述鍍完背鈍化層后的硅片進(jìn)行正膜減反層的制備。
2.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法,其特征在于:所述步驟一中紫外清洗時(shí)間為10至30分鐘。
3.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法,其特征在于:所述步驟二中紫外清洗時(shí)間為10至30分鐘。
4.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法,其特征在于:所述步驟三中紫外清洗時(shí)間為10至30分鐘。
5.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法,其特征在于:所述步驟四中紫外清洗時(shí)間為10至30分鐘。
6.如權(quán)利要求1至5任一所述的晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜方法,其特征在于:所述紫外清洗方法為,利用185納米的紫外光首先將空氣中的氧氣分解成臭氧,利用254納米的紫外光再將臭氧分解成氧氣和活性氧,通過(guò)活性氧與有機(jī)分子發(fā)生氧化反應(yīng),生成的揮發(fā)性氣體逃逸,實(shí)現(xiàn)了表面清洗。
7.一種晶體硅太陽(yáng)能電池鍍膜設(shè)備,包括等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備機(jī)臺(tái)、緩存?zhèn)},其特征在于:所述緩存?zhèn)}內(nèi)設(shè)有紫外清洗系統(tǒng),所述紫外清洗系統(tǒng)包括兩種紫外燈管、反光罩,兩種所述紫外燈管發(fā)出的紫外光波長(zhǎng)分別為185納米和254納米。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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