[發明專利]蒙砂處理加工系統

在審

• 申請號: 202010865288.4
• 申請日: 2020-08-25
• 公開（公告）號: CN114105482A
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 孫文峰;邱驚龍
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;B08B3/04;B08B11/04
• 代理公司: 北京知帆遠景知識產權代理有限公司 11890
• 代理人: 吳文婧

本申請公開了一種蒙砂處理加工系統，包括：蒙砂設備，蒙砂設備包括蒙砂反應槽和攪拌裝置，蒙砂反應槽內適于盛放蒙砂藥液，攪拌裝置設于蒙砂反應槽，且攪拌裝置的至少一部分伸入至蒙砂反應槽內以攪拌蒙砂藥液。根據本申請實施例的蒙砂處理加工系統，該蒙砂處理加工系統在對工件進行蒙砂處理的過程中，利用攪拌裝置對蒙砂反應槽的蒙砂藥液進行攪拌，可以使蒙砂粉在蒙砂藥液中均勻分布，不會沉積，避免了回流口堵塞、道口堵塞等問題，并且使得加工件的表面蒙砂處理后具有均勻的蒙砂效果，避免出現流痕、異色等缺陷。

技術領域

本申請涉及工件的蒙砂處理技術領域，尤其是涉及一種蒙砂處理加工系統。

背景技術

相關技術中，手機行業玻璃蓋板的蒙砂工藝主要是通過水刀線實現，然而在加工蒙砂產品時存在以下問題：由于蒙砂藥液是固液混合狀態，在水刀線的回流路很容易沉積，堵塞回流口。并且，一旦有異物或雜質吸附在水刀線刀口附近，藥水中的聚乙烯吡咯烷酮(PVP)及十二烷基苯磺酸鈉(SDS)會選擇性的吸附在異物四周并不斷成核長大，最終將水刀線的刀口堵塞，形成斷流。另外，由于水刀線是將藥水變成霧狀吸附在玻璃表面，使得化學反應過程中，玻璃表面沒有足夠的切向力，使得PVP鏈或SDS分子在成核過程中無法均勻的長大，從而導致異色、流痕比例高。

發明內容

本申請提出一種蒙砂處理加工系統，該蒙砂處理加工系統在對工件進行蒙砂處理的過程中，利用攪拌裝置對蒙砂反應槽的蒙砂藥液進行攪拌，可以使蒙砂粉在蒙砂藥液中均勻分布，不會沉積，避免了回流口堵塞、道口堵塞等問題，并且使得加工件的表面蒙砂處理后具有均勻的蒙砂效果，避免或減少出現流痕、異色等缺陷。

根據本申請實施例的蒙砂處理加工系統，包括：蒙砂設備，所述蒙砂設備包括蒙砂反應槽和攪拌裝置，所述蒙砂反應槽內適于盛放蒙砂藥液，所述攪拌裝置設于所述蒙砂反應槽，且所述攪拌裝置的至少一部分伸入至所述蒙砂反應槽內以攪拌所述蒙砂藥液。

根據本申請實施例的蒙砂處理加工系統，通過在蒙砂設備內的蒙砂反應槽內設置攪拌裝置，且攪拌裝置的至少一部分可以伸入蒙砂反應槽內，使攪拌裝置可以攪拌蒙砂藥液，該蒙砂處理加工系統在對工件進行蒙砂處理的過程中，利用攪拌裝置對蒙砂反應槽的蒙砂藥液進行攪拌，可以使蒙砂粉在蒙砂藥液中均勻分布，不會沉積，避免了回流口堵塞、道口堵塞等問題，并且使得加工件的表面蒙砂處理后具有均勻的蒙砂效果，避免或減少出現流痕、異色等缺陷。

本申請的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實踐了解到。

附圖說明

本申請的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是根據本申請一些實施例的蒙砂處理加工系統的示意圖；

圖2是根據本申請一些實施例的蒙砂處理加工系統的部分結構示意圖；

圖3是根據本申請一些實施例的蒙砂設備的示意圖；

圖4是根據本申請一些實施例的蒙砂處理加工系統的攪拌裝置的示意圖；

圖5是根據本申請一些實施例的第一清洗槽的示意圖；

圖6是根據本申請一些實施例的第二清洗槽的示意圖；

圖7是根據本申請一些實施例的降溫槽的示意圖；

圖8是根據本申請一些實施例的機械手和夾具的配合示意圖。

附圖標記：

蒙砂處理加工系統100；

蒙砂設備1；蒙砂反應槽11；支撐凸耳111；槽體112；第一進口113；第一出口114；支撐座115；攪拌裝置12；攪拌件121；驅動桿1211；攪拌部1212；框體12121；桿體12122；連接桿1213；驅動機構122；