[發(fā)明專(zhuān)利]蒙砂處理加工系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010865288.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114105482A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫文峰;邱驚龍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C03C15/00 | 分類(lèi)號(hào): | C03C15/00;B08B3/04;B08B11/04 |
| 代理公司: | 北京知帆遠(yuǎn)景知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11890 | 代理人: | 吳文婧 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 加工 系統(tǒng) | ||
1.一種蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,包括:
蒙砂設(shè)備,所述蒙砂設(shè)備包括蒙砂反應(yīng)槽和攪拌裝置,所述蒙砂反應(yīng)槽內(nèi)適于盛放蒙砂藥液,所述攪拌裝置設(shè)于所述蒙砂反應(yīng)槽,且所述攪拌裝置的至少一部分伸入至所述蒙砂反應(yīng)槽內(nèi)以攪拌所述蒙砂藥液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述攪拌裝置包括:
攪拌件,所述攪拌件的至少一部分位于所述蒙砂反應(yīng)槽內(nèi)以攪拌所述蒙砂藥液;
驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)在所述蒙砂反應(yīng)槽上,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述攪拌件相連以驅(qū)動(dòng)所述攪拌件運(yùn)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述攪拌件與所述蒙砂反應(yīng)槽的底壁之間具有間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述攪拌件與所述蒙砂反應(yīng)槽的底壁之間的所述間隙的范圍為1-2mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述攪拌件包括:
驅(qū)動(dòng)桿,所述驅(qū)動(dòng)桿與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連;
攪拌部,所述攪拌部位于所述蒙砂反應(yīng)槽內(nèi)且鄰近所述蒙砂反應(yīng)槽的底部;
連接桿,所述連接桿的上端與所述驅(qū)動(dòng)桿相連,所述連接桿的下端與所述攪拌部相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述攪拌部包括:
框體,所述框體形成為沿著所述蒙砂反應(yīng)槽的周向延伸的環(huán)形;
桿體,所述桿體為至少一個(gè),所述桿體設(shè)在所述框體的內(nèi)周側(cè),且所述桿體的兩端與所述框體相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)在所述蒙砂反應(yīng)槽的頂部,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸或液壓缸,所述驅(qū)動(dòng)桿的一端與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連,所述蒙砂反應(yīng)槽的頂部設(shè)有支撐凸耳,所述驅(qū)動(dòng)桿的另一端可活動(dòng)地穿設(shè)于所述支撐凸耳。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述連接桿鄰近所述蒙砂反應(yīng)槽的側(cè)壁設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述蒙砂反應(yīng)槽包括具有中空腔的槽體和設(shè)在所述中空腔內(nèi)的降溫層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述降溫層包括換熱介質(zhì),所述換熱介質(zhì)的至少一部分可流動(dòng),所述蒙砂反應(yīng)槽的外側(cè)壁上形成有與所述中空腔均連通的第一進(jìn)口和第一出口。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,包括第一清洗槽和第二清洗槽,所述第一清洗槽和所述第二清洗槽均鄰近所述蒙砂反應(yīng)槽設(shè)置,在工件放置在所述蒙砂處理槽內(nèi)進(jìn)行蒙砂處理之前適于在所述第一清洗槽內(nèi)進(jìn)行清洗,在工件在所述蒙砂處理槽內(nèi)蒙砂處理之后適于在所述第二清洗槽內(nèi)進(jìn)行清洗。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述第一清洗槽的側(cè)壁上形成有第二進(jìn)口和第二出口,所述第一清洗槽為矩形,所述第二進(jìn)口和所述第二出口分別鄰近所述第一清洗槽的兩個(gè)相對(duì)的角設(shè)置;和\或,所述第二清洗槽的側(cè)壁上形成有第三進(jìn)口和第三出口,所述第二清洗槽為矩形,所述第三進(jìn)口和所述第三出口分別鄰近所述第二清洗槽的兩個(gè)相對(duì)的角設(shè)置。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的蒙砂處理加工系統(tǒng),其特征在于,所述第一清洗槽和所述第二清洗槽內(nèi)均適于放置水,所述蒙砂處理加工系統(tǒng)還包括第三清洗槽,所述第三清洗槽鄰近所述蒙砂處理槽設(shè)置,所述第三清洗槽內(nèi)適于放置酸洗液,在工件放置在所述蒙砂處理槽內(nèi)進(jìn)行蒙砂處理之前且在工件放置在所述第一清洗槽內(nèi)清洗之后,所述工件適于放置在所述第三清洗槽內(nèi)進(jìn)行清洗。
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