[發(fā)明專利]一種步進(jìn)式高精度光刻機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010858776.2
• 申請日: 2020-08-24
• 公開（公告）號: CN111913369B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李俊毅;姚恒裕;陳舜欽
• 申請（專利權(quán)）人: 福建安芯半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 泉州市興博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35238
• 代理人: 王成紅

1.一種步進(jìn)式高精度光刻機(jī)，其特征在于：包括有工作臺、激光器、光束矯正器、能量控制器、能量探測器、光束形狀設(shè)置、遮光器、掩模版、掩模臺、物鏡、硅片、封閉框架、減振器、溫控裝置、調(diào)整器和控制臺；工作臺、光束形狀設(shè)置、遮光器、能量探測器、掩模版、掩膜臺、物鏡、硅片、溫控裝置、調(diào)整器設(shè)于封閉框架內(nèi)；能量控制器、激光器、光束矯正器、控制臺設(shè)于封閉框架外；封閉框架底部設(shè)有減振器；能量探測器、遮光器、光束形狀設(shè)置、能量控制器、光束矯正器位于同一水平線上，且從左至右依次設(shè)置；激光器通過光束矯正器與能量控制器相配合，掩模臺設(shè)于能量探測器正下方，掩模版設(shè)于掩模臺頂部正中心；

工作臺為磁懸浮工作臺，工作臺設(shè)有兩部分，一部分為曝光臺，曝光臺位于物鏡正下方，另一部分為測量臺，工作臺頂部承載有硅片，測量臺正上方設(shè)有測量設(shè)備；

物鏡設(shè)于掩模臺正下方，物鏡、掩模版、掩模臺之間設(shè)有溫控裝置；

調(diào)整器設(shè)于封閉框架內(nèi)，調(diào)整器與物鏡相配合，調(diào)整器設(shè)有調(diào)整氣缸、橡膠圈和弧形塊；橡膠圈包裹著物鏡外表面中部，弧形塊設(shè)有兩個(gè)，弧形塊端部鉸接于調(diào)整器輸出端，弧形塊內(nèi)側(cè)固接于橡膠圈；所述溫控裝置包括有溫度測定模塊以及溫度調(diào)節(jié)模塊，溫度測定模塊能夠感應(yīng)物鏡、掩模版、掩模臺之間的溫度，在溫度差大于或小于預(yù)定值，溫度調(diào)節(jié)模塊能夠調(diào)節(jié)溫度，使得物鏡、掩模版、掩模臺之間的溫度趨于穩(wěn)定；

所述光束矯正器設(shè)有三個(gè)，光束矯正器能夠?qū)⒓す馄魉缴涑龅募す馐{(diào)整為入射方向平行；

所述封閉框架內(nèi)表面為吸音材質(zhì)；

所述封閉框架內(nèi)還設(shè)有調(diào)諧器；

所述封閉框架內(nèi)頂部還設(shè)有真空抽氣泵。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種步進(jìn)式高精度光刻機(jī)，其特征在于：所述控制臺控制工作臺、激光器、能量控制器、能量探測器、溫控裝置、調(diào)整器、真空抽氣泵、調(diào)諧器的啟閉。