[發(fā)明專利]發(fā)光顯示設(shè)備和制造發(fā)光顯示設(shè)備的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010855287.1 | 申請日: | 2015-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN111952344A | 公開(公告)日: | 2020-11-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金槿卓 | 申請(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/50 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 嚴(yán)芬;康泉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 顯示 設(shè)備 制造 方法 | ||
公開了發(fā)光顯示設(shè)備和制造發(fā)光顯示設(shè)備的方法。該發(fā)光顯示設(shè)備包括具有多個像素的基板。針對每個像素在基板上提供有第一電極,并且像素限定層限定了像素中的每個。像素限定層具有開口以暴露第一電極。電荷注入層在第一電極上,并且表面處理層在電荷注入層上。表面處理層從像素限定層的開口的內(nèi)部延伸到像素限定層的頂表面。表面處理層包括多個槽,該多個槽位于表面處理層的在像素限定層的頂表面上延伸的部分中。電荷傳輸層在表面處理層上,發(fā)光層在電荷傳輸層上,并且第二電極在發(fā)光層上。
本申請是申請日為2015年5月8日、申請?zhí)枮?01510231059.6、名稱為“發(fā)光顯示設(shè)備和制造發(fā)光顯示設(shè)備的方法”的發(fā)明專利申請的分案申請。
相關(guān)申請的交叉引用
2014年8月22日遞交的名稱為“發(fā)光顯示設(shè)備和制造發(fā)光顯示設(shè)備的方法”的韓國專利申請No.10-2014-0109588通過引用被整體合并于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本文所描述的一個或多個實(shí)施例涉及發(fā)光顯示設(shè)備和制造發(fā)光顯示設(shè)備的方法。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光顯示器是自發(fā)光的,并且具有寬視角、高對比度和快響應(yīng)速度。這種顯示器的每個像素具有在陽極電極和陰極電極之間的有機(jī)發(fā)光層。
當(dāng)正電壓和負(fù)電壓被施加到這些電極時,空穴從陽極電極經(jīng)由空穴注入層和空穴傳輸層移動到有機(jī)發(fā)光層,并且電子從陰極電極經(jīng)由電子注入層和電子傳輸層移動到有機(jī)發(fā)光層。電子和空穴在有機(jī)發(fā)光層中再次結(jié)合,以產(chǎn)生激子。隨著激子從激發(fā)態(tài)轉(zhuǎn)變到基態(tài),有機(jī)發(fā)光層發(fā)射光以形成圖像。
有機(jī)發(fā)光顯示器還可以包括具有暴露各像素的陽極電極的開口的像素限定層。空穴注入層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極電極可以被形成在通過像素限定層的開口暴露的陽極電極上。空穴傳輸層和有機(jī)發(fā)光層可以使用例如噴墨印刷法或噴嘴印刷法來形成。
例如為了提高空穴傳輸層溶液的潤濕性,親液的表面處理層可以被形成在陽極電極上。然而,當(dāng)空穴傳輸層溶液被噴射到表面處理層上時,溶液可能由于其噴射壓力和速度而錯誤地朝相鄰像素散布。
結(jié)果,空穴傳輸層可能被形成到相鄰像素的部分。有機(jī)發(fā)光層也可能在空穴傳輸層上被形成到相鄰像素的部分。因此,發(fā)射不同顏色的光的有機(jī)發(fā)光層可能在相鄰像素中彼此重疊。因此,可能顯示出不希望的混合色,從而降低顯示質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)一個或多個實(shí)施例,一種發(fā)光顯示設(shè)備包括:包括多個像素的基板;針對每個像素在所述基板上的第一電極;在基板上限定每個像素的像素限定層,所述像素限定層具有開口以暴露所述第一電極;在所述第一電極上的電荷注入層;在所述電荷注入層上的表面處理層,所述表面處理層從所述像素限定層的所述開口的內(nèi)部延伸到所述像素限定層的頂表面,所述表面處理層包括多個槽,所述多個槽位于所述表面處理層的在所述像素限定層的所述頂表面上延伸的部分中;在所述表面處理層上的電荷傳輸層;在所述電荷傳輸層上的發(fā)光層;以及在所述發(fā)光層上的第二電極。
所述槽可以在所述開口的沿第一方向的至少一側(cè)上,并且所述第一方向可以朝向相鄰像素,所述相鄰像素發(fā)射與其中形成有所述表面處理層的像素所發(fā)射的光的顏色不同顏色的光。所述槽可以被基本成形為沿與所述第一方向交叉的第二方向延伸的直線。所述槽可以具有朝向所述相鄰像素增加的寬度。所述槽可以具有基本上相等的寬度。所述槽可以具有在所述第一方向和與所述第一方向交叉的第二方向之間的傾斜形狀。所述槽可以具有格子形狀。
所述多個像素可以包括被布置成行并發(fā)射相同顏色的光的像素,并且所述表面處理層可以以所述被布置成行并發(fā)射相同顏色的光的像素為單位被形成。所述電荷傳輸層可以沿所述表面處理層被共形地形成。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
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- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





