[發明專利]一種紫外雙波段曝光鏡頭

在審

• 申請號: 202010853595.0
• 申請日: 2020-08-21
• 公開（公告）號: CN111999867A
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: 桂立
• 申請（專利權）人: 蘇州賽源光學科技有限公司
• 主分類號: G02B13/22
• 分類號: G02B13/22;G03F7/20
• 代理公司: 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288
• 代理人: 葛燕婷

1.一種紫外雙波段曝光鏡頭，包括前透鏡組、光闌以及后透鏡組，所述光闌位于所述前透鏡組及所述后透鏡組之間，其特征在于：所述前透鏡組包括依次設置的第一透鏡，所述第一透鏡為雙凸透鏡；第二透鏡，所述第二透鏡為平凸透鏡；第三透鏡，所述第三透鏡為凹凸透鏡；第四透鏡，所述第四透鏡為平凹透鏡；所述后透鏡組包括依次設置的第五透鏡，所述第五透鏡為凹凸透鏡；第六透鏡，所述第六透鏡為平凸透鏡。

2.根據權利要求1所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述前透鏡組前為物方，所述后透鏡后為像方；或者所述前透鏡組前為像方，所述后透鏡后為物方。

3.根據權利要求2所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述第一透鏡靠近物方表面的曲率半徑大于靠近像方表面的曲率半徑。

4.根據權利要求2所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述第二透鏡靠近物方表面為凸面，靠近像方表面為平面。

5.根據權利要求2所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述第三透鏡靠近物方表面為凸面，靠近像方表面為凹面。

6.根據權利要求5所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述凸面的曲率半徑小于所述凹面的曲率半徑。

7.根據權利要求2所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述第四透鏡靠近物方表面為平面，靠近像方表面為凹面。

8.根據權利要求2所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述第五透鏡靠近物方表面為凹面，靠近像方表面為凸面。

9.根據權利要求8所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述凸面的曲率半徑小于所述凹面的曲率半徑。

10.根據權利要求2所述的紫外雙波段曝光鏡頭，其特征在于：所述第六透鏡靠近物方表面為凸面，靠近像方表面為平面。