[發(fā)明專利]離子源安裝結(jié)構(gòu)及離子源裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010850672.7
• 申請(qǐng)日: 2020-08-21
• 公開（公告）號(hào): CN111834186A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉偉基;吳秋生;冀鳴;易洪波;趙剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中山市博頓光電科技有限公司;佛山市博頓光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01J27/02
• 分類號(hào): H01J27/02;H01J27/14
• 代理公司: 北京市立方律師事務(wù)所 11330
• 代理人: 劉延喜

本申請(qǐng)涉及一種離子源安裝結(jié)構(gòu)和離子源裝置，應(yīng)用于離子源裝置上，所述離子源裝置包括至少一個(gè)霍爾離子源和至少一個(gè)中空陰極；所述中空陰極設(shè)于距離所述霍爾離子源一設(shè)定位置處，為所述霍爾離子源提供中和電子；該安裝結(jié)構(gòu)包括：離子源底座、角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和基座；所述霍爾離子源安裝在離子源底座上，所述離子源底座通過角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)安裝在基座上，所述離子源底座通過角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，以調(diào)整霍爾離子源的發(fā)射角度。通過本申請(qǐng)的技術(shù)方案，可以根據(jù)鍍膜需求來(lái)調(diào)整霍爾離子源的角度，從而可以提升離子源覆蓋效果，提高使用效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及離子源技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種離子源安裝結(jié)構(gòu)及離子源裝置。

背景技術(shù)

離子離子源是一門用途廣，類型多、涉及科學(xué)多、工藝技術(shù)性強(qiáng)、發(fā)展十分迅速的應(yīng)用科學(xué)技術(shù)。霍爾離子源作為一種十分常用的離子源類型，多應(yīng)用于薄膜沉積領(lǐng)域，作為沉積輔助部件，提高薄膜物理特性。

離子源裝置用于真空鍍膜機(jī)中進(jìn)行鍍膜，但是由于鍍膜過程中，不同的鍍膜對(duì)象需要有不同覆蓋范圍和不同密度離子束，才能獲得較佳的使用效果。而目前離子源裝置安裝在真空鍍膜機(jī)中一般都是固定安裝，針對(duì)不同鍍膜對(duì)象時(shí)也無(wú)法進(jìn)行調(diào)節(jié)，導(dǎo)致離子源覆蓋效果差，使用效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)的目的旨在解決上述的技術(shù)缺陷之一，特別是離子源覆蓋效果差，使用效率較低的缺陷，提供一種離子源安裝結(jié)構(gòu)及離子源裝置。

一種離子源安裝結(jié)構(gòu)，應(yīng)用于離子源裝置上，所述離子源裝置包括至少一個(gè)霍爾離子源和至少一個(gè)中空陰極；所述中空陰極設(shè)于距離所述霍爾離子源一設(shè)定位置處，為所述霍爾離子源提供中和電子；

該安裝結(jié)構(gòu)包括：離子源底座、角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和基座；

所述霍爾離子源安裝在離子源底座上，所述離子源底座通過角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)安裝在基座上，所述離子源底座通過角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，以調(diào)整霍爾離子源的發(fā)射角度。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述的離子源安裝結(jié)構(gòu)，還包括旋轉(zhuǎn)接頭；

所述中空陰極通過旋轉(zhuǎn)接頭安裝在基座上，所述中空陰極通過所述旋轉(zhuǎn)接頭進(jìn)行自由轉(zhuǎn)動(dòng)，調(diào)整中和電子的發(fā)射方向。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述霍爾離子源通過滑軌固定在所述離子源底座上，通過所述滑軌滑動(dòng)調(diào)整所述霍爾離子源的位置。

在一個(gè)實(shí)施例中所述的離子源安裝結(jié)構(gòu)，還包括：可伸縮支架，所述可伸縮支架的一端設(shè)有安裝底座，另一端連接所述基座。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述離子源底座上設(shè)置有多組定位孔，所述霍爾離子源通過任意一組所述定位孔固定在離子源底座設(shè)定位置上。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)內(nèi)設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，通過該驅(qū)動(dòng)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)調(diào)整霍爾離子源的角度；

所述旋轉(zhuǎn)接頭內(nèi)設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，通過該驅(qū)動(dòng)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)調(diào)整中空陰極的發(fā)送方向；

所述滑軌內(nèi)設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，通過該驅(qū)動(dòng)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)調(diào)整霍爾離子源在離子源底座上的位置；

和/或

所述可伸縮支架內(nèi)設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，通過該驅(qū)動(dòng)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)調(diào)整伸縮高度。

在一個(gè)實(shí)施例中所述的離子源安裝結(jié)構(gòu)，還包括分別與所述角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)接頭、滑軌和可伸縮支架連接的控制器；所述控制器用于輸出控制信號(hào)控制所述角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)接頭、滑軌和可伸縮支架內(nèi)設(shè)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)。

在一個(gè)實(shí)施例中所述的離子源安裝結(jié)構(gòu)，還包括連接所述控制器的人機(jī)交互模塊，用于接收輸入的最佳調(diào)節(jié)參數(shù)傳輸至所述控制器；其中，所述最佳調(diào)節(jié)參數(shù)包括離子源最佳角度、中空陰極最佳方向、離子源最佳位置和/或支架最佳高度。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述最佳調(diào)節(jié)參數(shù)的獲取方法包括：