[發明專利]離子源安裝結構及離子源裝置

在審

• 申請號: 202010850672.7
• 申請日: 2020-08-21
• 公開（公告）號: CN111834186A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 劉偉基;吳秋生;冀鳴;易洪波;趙剛
• 申請（專利權）人: 中山市博頓光電科技有限公司;佛山市博頓光電科技有限公司
• 主分類號: H01J27/02
• 分類號: H01J27/02;H01J27/14
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 劉延喜

1.一種離子源安裝結構，應用于離子源裝置上，其特征在于，所述離子源裝置包括至少一個霍爾離子源和至少一個中空陰極；所述中空陰極設于距離所述霍爾離子源一設定位置處，為所述霍爾離子源提供中和電子；

該安裝結構包括：離子源底座、角度調節機構和基座；

所述霍爾離子源安裝在離子源底座上，所述離子源底座通過角度調節機構安裝在基座上，所述離子源底座通過角度調節機構進行轉動，以調整霍爾離子源的發射角度。

2.根據權利要求1所述的離子源安裝結構，其特征在于，還包括旋轉接頭；

所述中空陰極通過旋轉接頭安裝在基座上，所述中空陰極通過所述旋轉接頭進行自由轉動，調整中和電子的發射方向。

3.根據權利要求1所述的離子源安裝結構，其特征在于，所述霍爾離子源通過滑軌固定在所述離子源底座上，通過所述滑軌滑動調整所述霍爾離子源的位置。

4.根據權利要求1所述的離子源安裝結構，其特征在于，還包括：可伸縮支架，所述可伸縮支架的一端設有安裝底座，另一端連接所述基座。

5.根據權利要求1所述的離子源安裝結構，其特征在于，所述離子源底座上設置有多組定位孔，所述霍爾離子源通過任意一組所述定位孔固定在離子源底座設定位置上。

6.根據權利要求1-4任一項所述的離子源安裝結構，其特征在于，所述角度調節機構內設有驅動電機，通過該驅動電機進行驅動調整霍爾離子源的角度；

所述旋轉接頭內設有驅動電機，通過該驅動電機進行驅動調整中空陰極的發送方向；

所述滑軌內設有驅動電機，通過該驅動電機進行驅動調整霍爾離子源在離子源底座上的位置；

和/或

所述可伸縮支架內設有驅動電機，通過該驅動電機進行驅動調整伸縮高度。

7.根據權利要求6所述的離子源安裝結構，其特征在于，還包括分別與所述角度調節機構、旋轉接頭、滑軌和可伸縮支架連接的控制器；所述控制器用于輸出控制信號控制所述角度調節機構、旋轉接頭、滑軌和可伸縮支架內設的驅動電機。

8.根據權利要求7所述的離子源安裝結構，其特征在于，還包括連接所述控制器的人機交互模塊，用于接收輸入的最佳調節參數傳輸至所述控制器；其中，所述最佳調節參數包括離子源最佳角度、中空陰極最佳方向、離子源最佳位置和/或支架最佳高度。

9.根據權利要求8所述的離子源安裝結構，其特征在于，所述最佳調節參數的獲取方法包括：

對真空鍍膜機使用后基片的表面厚度檢測，得到多個位置的厚度參數；

根據厚度數據計算離子源最佳角度、中空陰極最佳方向、離子源最佳位置和/或支架最佳高度。

10.一種離子源裝置，其特征在于，包括至少一個霍爾離子源、至少一個中空陰極以及權利要求1-9任一項所述的離子源安裝結構；

所述中空陰極設于距離所述霍爾離子源一設定位置處，為所述霍爾離子源提供中和電子；

所述霍爾離子源和中空陰極安裝在所述離子源安裝結構上。