[發明專利]一種光學元件及其制備方法

在審

• 申請號: 202010849186.3
• 申請日: 2020-08-21
• 公開（公告）號: CN111722308A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 蘭洋;沈健;姚國峰
• 申請（專利權）人: 深圳市匯頂科技股份有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B5/04;G02B5/00;G02B5/02
• 代理公司: 北京合智同創知識產權代理有限公司 11545
• 代理人: 李杰

本申請實施例公開了一種光學元件及其制備方法。通過在光學微結構上設置無機材料層，以及在無機材料層上設置折射率小于所述光學微結構的折射率的含氟碳鍵有機層，通過調整無機材料層和含氟碳鍵有機層的厚度在光學微結構上形成較薄的抗反射層，降低了光學元件對于入射光的光反射率，提高了進光量。

技術領域

本申請涉及光學技術領域，并且更具體地，涉及一種光學元件及其制備方法。

背景技術

當前的光學微結構通常通過在表面設置低折射率無機材料，來降低反射率，從而提高進光量。但是大部分無機材料的折射率并不是很低，這些無機材料對于降低光學微結構表面反射率的作用有限，抗反射性能往往不佳。

發明內容

本申請實施例提供了一種光學元件及其制備方法，能夠顯著的降低光學元件對于入射光的反射率。

第一方面，提供了一種光學元件，包括：

光學微結構；

位于所述光學微結構表面上的無機材料層；

位于所述無機材料層表面上的含氟碳鍵有機層；

其中，所述含氟碳鍵有機層的折射率小于所述光學微結構的折射率。

第二方面，提供了一種光學元件的制備方法，包括：

將無機材料沉積至光學微結構表面，生成位于所述光學微結構表面上的無機材料層；

將含氟碳鍵有機材料沉積至所述無機材料層表面，生成位于所述無機材料層表面上的含氟碳鍵有機層；

其中，所述含氟碳鍵有機層的折射率小于所述光學微結構的折射率。

第三方面，提供一種圖像傳感器，所述圖像傳感器中，包括前述的光學元件。

第四方面，提供一種光學擴散片，所述光學擴散片中，包括前述的光學元件。

本申請實施例的技術方案，通過在光學微結構表面設置無機材料層，以及在無機材料層表面設置折射率小于所述光學微結構的折射率的含氟碳鍵有機層，在光學微結構表面上形成有效的抗反射結構，降低了光學元件整體對于入射光的光反射率，提高了進光量。

附圖說明

圖1a為本申請實施例所提供的一種光學元件的局部橫截面的示意性結構圖；

圖1b為本申請實施例所提供的另一種光學元件的局部橫截面的示意性結構圖；

圖2為本申請實施例所提供的一種光學元件的反射率與無機材料層和含氟碳鍵有機層的厚度的關系示意圖；

圖3 為申請本實施例所提供的多種不同的光學元件的反射率的對比示意圖；

圖4為本申請實施例所提供的一種光學元件的制備方法的流程示意圖；

附圖標記：1—光學微結構；2—無機材料層；3—含氟碳鍵有機層；4—基底。

具體實施方式

在光學元件中，為了提高其進光量，通常是在光學微結構表面設置抗反射層，以降低光學元件表面的反射率，例如，一般是在光學微結構表面蒸鍍一層低折射率無機材料，例如SiO₂、MgF₂等。但是大部分無機材料的折射率并不是很低，這些折射率并不太低的抗反射層雖然能能一定程度的降低光學元件表面反射率，但降低程度有限。而在某些場景下，光學元件的反射率對于整體的性能有著明顯直接的影響。例如，反射率過高會直接降低圖像傳感器的暗光性能，以及，光學元件反射率過高會影響到成像時的質量，在成像時造成“眩光”或者“鬼影”的現象。

基于此，需要一種可以有效降低光學元件對于入射光的反射率，提高進光量的方案。