[發(fā)明專利]一種光刻膠去除裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010841196.2 | 申請日: | 2020-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN111880385A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 許忠暉;王東銘;陳嘉勇;蘇財寶 | 申請(專利權(quán))人: | 泉芯集成電路制造(濟(jì)南)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/42 | 分類號: | G03F7/42 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 張偉 |
| 地址: | 250000 山東省濟(jì)南市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光刻 去除 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種光刻膠去除裝置,涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,用于去除待加工芯片上的光刻膠,包括:第一噴嘴、第二噴嘴和基座,待加工芯片設(shè)置于基座;第一噴嘴和第二噴嘴分別位于待加工芯片相對的兩側(cè),第一噴嘴朝向待加工芯片的上表面噴灑清潔液;第二噴嘴朝向待加工芯片的下表面噴灑加熱后的氮?dú)庖约訜岽庸ば酒令A(yù)設(shè)反應(yīng)溫度。實(shí)現(xiàn)將氮?dú)獾臏囟葌鬟f至待加工芯片,使得待加工芯片的表面溫度升高,通過控制氮?dú)獾臏囟龋纯蓪?shí)現(xiàn)對待加工芯片表面的溫度,即預(yù)設(shè)反應(yīng)溫度進(jìn)行精確控制,使得清潔液在與光刻膠反應(yīng)時能夠始終保持在高效溫度區(qū)間,進(jìn)而在提高反應(yīng)速率的同時,也進(jìn)一步的提高清洗的效率以及效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種光刻膠去除裝置。
背景技術(shù)
隨著科技的進(jìn)步,半導(dǎo)體在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明應(yīng)用、大功率電源轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域應(yīng)用越來越廣泛。在半導(dǎo)體芯片的制備過程中,采用設(shè)備對晶圓進(jìn)行加工,在定義刻蝕圖形時需要涂覆一層光刻膠,在等離子處理工藝完成后芯片表面還覆蓋有一層光刻膠層。因此在完成等離子體刻蝕操作之后,需要將芯片轉(zhuǎn)移至光刻膠去除裝置內(nèi),用以剝離芯片表面的光刻膠。
現(xiàn)有剝離光刻膠的方法主要是將清潔劑加熱到剝離的溫度,然后噴灑至芯片表面,從而對光刻膠進(jìn)行剝離。但也因此,使得清潔劑作用于光刻膠時的溫度難以準(zhǔn)確控制,導(dǎo)致光刻膠難以清洗干凈。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種光刻膠去除裝置,以解決現(xiàn)有光刻膠因溫度控制不精準(zhǔn)難以清洗干凈的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實(shí)施例采用的技術(shù)方案如下:
本發(fā)明實(shí)施例的一方面,提供一種光刻膠去除裝置,用于去除待加工芯片上的光刻膠,包括:第一噴嘴、第二噴嘴和基座,待加工芯片設(shè)置于基座;第一噴嘴和第二噴嘴分別位于待加工芯片相對的兩側(cè),第一噴嘴朝向待加工芯片的上表面噴灑清潔液;第二噴嘴朝向待加工芯片的下表面噴灑加熱后的氮?dú)庖约訜岽庸ば酒令A(yù)設(shè)反應(yīng)溫度。
可選的,第二噴嘴的噴射方向?qū)?yīng)于待加工芯片的中心。
可選的,光刻膠去除裝置包括多個第二噴嘴;多個第二噴嘴的噴射方向相對待加工芯片的另一側(cè)面呈直線排列。
可選的,光刻膠去除裝置包括多個第二噴嘴;多個第二噴嘴的噴射方向相對待加工芯片的另一側(cè)面均布排列。
可選的,基座包括座體和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器;待加工芯片設(shè)置于座體,旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器與座體傳動連接,用于驅(qū)動座體旋轉(zhuǎn)以帶動待加工芯片同步旋轉(zhuǎn)。
可選的,清潔液為硫酸和雙氧水的反應(yīng)液;光刻膠去除裝置還包括用于存儲硫酸的硫酸存儲器、硫酸加熱器以及雙氧水存儲器;硫酸加熱器用于將硫酸存儲器內(nèi)的硫酸加熱至第一預(yù)設(shè)溫度,硫酸存儲器和第一噴嘴管路連接,雙氧水存儲器和第一噴嘴管路連接。
可選的,光刻膠去除裝置還包括氮?dú)獯鎯ζ骱偷獨(dú)饧訜崞鳎坏獨(dú)獯鎯ζ髋c第二噴嘴管路連接,氮?dú)饧訜崞饔糜趯⒌獨(dú)饧訜嶂恋诙A(yù)設(shè)溫度。
可選的,光刻膠去除裝置還包括傳感器和控制器;傳感器與控制器電連接,傳感器與基座對應(yīng)設(shè)置,用于檢測基座上是否安設(shè)有待加工芯片并向控制器輸出對應(yīng)的檢測信號;控制器與氮?dú)饧訜崞麟娺B接,用于根據(jù)檢測信號控制氮?dú)饧訜崞鞴ぷ鳌?/p>
可選的,第二噴嘴的材質(zhì)為聚四氟乙烯。
可選的,第二噴嘴的開口直徑為1至3毫米。
本發(fā)明的有益效果包括:
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