[發(fā)明專利]一種基于PMI信息的雷達關(guān)鍵零部件工藝設計方法

在審

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• 申請日: 2020-08-19
• 公開（公告）號: CN112001047A
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設計）人: 吳欣;馮展鷹;胡青報;王曉暉;徐志偉
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團公司第十四研究所
• 主分類號: G06F30/17
• 分類號: G06F30/17;G06F30/20;G06F111/04;G06F119/18
• 代理公司: 北京律譜知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11457
• 代理人: 孫紅穎

1.一種基于PMI信息的雷達關(guān)鍵零部件工藝設計方法，其特征在于，所述工藝設計方法包括以下步驟：

步驟S1：提取雷達關(guān)鍵零部件MBD模型中文本注釋信息、尺寸公差信息及與尺寸信息關(guān)聯(lián)的幾何特征信息；

步驟S2：將所述幾何特征信息與典型對象的幾何特征信息進行相似性計算，確定所述雷達關(guān)鍵零部件的類別，并獲取該對應類別的工序路線；

步驟S3：將所述文本注釋信息與典型工序模板庫進行對比，獲取所述文本注釋信息對應的工序模板；

步驟S4：將所述工序路線與工序模板進行排序，生成最優(yōu)工藝路線；

步驟S5：將所述尺寸公差信息輸入至所述最優(yōu)工藝流程內(nèi)，完成工藝設計。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S1中，所述幾何特征信息利用二維矩陣T[i,j]表示不同面之間的位置及類型；

所述二維矩陣T[i,j]是正方形矩陣，其中行數(shù)和列數(shù)是所述幾何特征信息中具有面的數(shù)量，所述二維矩陣T[i,j]內(nèi)元素即為該元素所在行代表的面與所在列代表面的關(guān)系或類型。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S1中，在所述二維矩陣T[i,j]中，如果i≠j，表示i面與j面之間的關(guān)系；如果i面與j面相交則兩個面為凹關(guān)系或者凸關(guān)系，如果i面與j面不相交則沒有關(guān)系；個位上0表示凹關(guān)系，個位上1表示凸關(guān)系；在十位上以數(shù)字1、2、3分別表示平面與平面相交、平面與柱面相交、柱面與柱面相交；

在所述二維矩陣T[i,j]中，如果i＝j，數(shù)組元素表示面的類型；個位數(shù)1表示內(nèi)表面，個位數(shù)0表示外表面；十位數(shù)1表示平面，十位數(shù)2表示柱面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S2中，所述幾何特征和與所述幾何特征關(guān)聯(lián)的尺寸信息按照樹狀結(jié)構(gòu)進行表達；

其中，所述樹狀結(jié)構(gòu)具有3個階度，所述樹狀結(jié)構(gòu)的階度1表示零部件模型，階度2表示所述零部件模型中具有的各幾何特征，階度3表示所述幾何特征中各尺寸信息。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S2中，所述樹狀結(jié)構(gòu)的相似性計算公式定義為：

式中，x,y分別表示所述雷達典型零部件和所述典型對象的結(jié)構(gòu)樹，e^x和e^y分別表示所述雷達典型零部件和所述典型對象的結(jié)構(gòu)樹內(nèi)直接相連的任意兩節(jié)點的邊集合；feature(e^x∩e^y)表示所述待比較的模型樹狀結(jié)構(gòu)的邊集合取交集后元素的數(shù)目；feature(e^x∪e^y)表示所述待比較的模型樹狀結(jié)構(gòu)的邊集合取并集后元素的數(shù)目。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S2中，選取所述相似性計算結(jié)果最大且閾值大于0.8的典型對象類別作為所述雷達關(guān)鍵零部件的類別。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S3中，所述文本注釋信息包括包含熱處理工序、電鍍工序、油漆工序和制標識工序的字段。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S3中，所述電鍍工序或油漆工序的字段分別與行業(yè)手冊中標記按照字節(jié)進行匹配，如果字節(jié)匹配性達到閾值0.8，標記匹配成功，獲取所述電鍍工序或油漆工序的工序模板。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S3中，所述熱處理工序的字段中包括“熱處理”、“固溶時效”、“正火”、“退火”、“淬火”、“調(diào)質(zhì)”、“QPQ”、“滲碳”、“滲氮”中任一內(nèi)容，獲取所述熱處理工序的工序模板。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述工藝設計方法，其特征在于，在步驟S3中，所述制標識工序的字段中包括“刻字”、“印字”、“制標識”中任一內(nèi)容，獲取所述制標識工序的工序模板。