[發明專利]一種真空蒸發鍍膜設備

在審

• 申請號: 202010835265.9
• 申請日: 2020-08-19
• 公開（公告）號: CN111850479A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 閆海濤
• 申請（專利權）人: 布勒萊寶光學設備（北京）有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 北京知匯林知識產權代理事務所(普通合伙) 11794
• 代理人: 楊華

本發明提供一種真空蒸發鍍膜設備，其中膜料供給機構包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空鍍膜室(1)的壁部，所述供料器(41)設置于所述供料座(31)內并適于相對于所述供料座(31)移動，以使在供料狀態時所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在鍍膜工作狀態時所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)擋閉。整個供料過程僅需供料器相對于供料座移動，供料機構簡單，供料步驟簡便，提高了膜料供給及整個鍍膜工藝效率。

技術領域

本發明屬于鍍膜技術領域，具體涉及一種真空蒸發鍍膜設備。

背景技術

真空蒸發鍍膜是真空鍍膜技術中開發時間最早，應用領域最廣的一種薄膜沉積方法，近年來隨著長壽命電阻蒸發源、電子束蒸發源、激光束蒸發源等在真空蒸發鍍膜技術中的應用，使這一技術的發展更趨完善，目前仍然在真空鍍膜技術中占有相當重要的地位。

真空蒸發鍍膜設備主要包括真空鍍膜室內的工件架、蒸發源和加熱源，工件架用于安裝待鍍膜工件，蒸發源用于盛放膜料，加熱源對蒸發源加熱，促使蒸發源內的膜料粒子逸出，并在氣相中遷移，最終到達工件表面上凝結而生成薄膜。在鍍膜工藝中，當蒸發源中的膜料消耗殆盡時，或當需要在同一工件表面蒸鍍不同材料薄膜時，都會面臨為蒸發源供給膜料，現有真空蒸發鍍膜設備中，供給膜料需打開真空鍍膜室的艙門進行，待供給膜料完畢關閉艙門后，對真空鍍膜室重新抽真空，供給膜料的整套步驟繁瑣，耗費工時，降低了整個鍍膜工藝效率。

發明內容

因此，本發明的目的在于克服現有技術存在的不足，而提供一種能夠提高膜料供給效率的真空蒸發鍍膜設備。

本發明的目的是通過如下技術方案來完成的，一種真空蒸發鍍膜設備，包括真空鍍膜室、工件架、蒸發源、加熱源和膜料供給機構，所述工件架、蒸發源、加熱源和加料機構設置在所述真空鍍膜室內，所述工件架用于安裝待鍍膜工件，所述蒸發源用于盛放膜料，所述加熱源用于對所述蒸發源加熱從而使所述蒸發源內的所述膜料蒸發，所述膜料供給機構包括供料器和供料座，所述供料座固定于所述真空鍍膜室的壁部，所述供料器設置于所述供料座內并適于相對于所述供料座移動，以使在供料狀態時所述供料器的出料口露出所述供料座，在鍍膜工作狀態時所述供料器的出料口被所述供料座擋閉。

本發明在真空鍍膜室的壁部固定供料座，在供料座內可相對移動地設置供料器，當需要供料時，驅動供料器相對于供料座移動使供料器的出料口露出，從而實現向蒸發源供給膜料；供料結束后，驅動供料器移動使供料器的出料口重新被供料座擋閉。整個供料過程僅需供料器相對于供料座移動，供料機構簡單，供料步驟簡便，提高了膜料供給及整個鍍膜工藝效率。

進一步地，本發明的真空蒸發鍍膜設備，所述供料器和/或所述供料座上設置有第一密封結構，以適于在所述鍍膜工作狀態時在所述供料器和供料座之間形成第一密封。

進一步地，本發明的真空蒸發鍍膜設備，所述供料座與所述壁部之間設置有第二密封結構，以適于在所述供料座與所述壁部之間形成第二密封。

進一步地，本發明的真空蒸發鍍膜設備，所述供料座呈套筒狀，所述供料器呈桿狀并穿設于所述套筒狀的供料座內并適于相對于所述供料座線性移動，以使在所述供料狀態時所述供料器的出料口伸出所述供料座外，在所述鍍膜工作狀態時所述供料器的出料口縮回所述供料座內。

進一步地，本發明的真空蒸發鍍膜設備，所述桿狀的供料器前端具有端帽，所述端帽后側與所述供料座的套筒前端相對，所述端帽后側和/或所述套筒前端設置有第一密封圈，以適于在所述鍍膜工作狀態時在所述供料器和供料座之間形成第一密封。

進一步地，本發明的真空蒸發鍍膜設備，所述套筒狀的供料座后部具有法蘭盤，所述法蘭盤前側與所述真空鍍膜室的壁部相對，所述法蘭盤前側和/或所述真空鍍膜室的壁部設置有第二密封圈，以適于在所述供料座與所述壁部之間形成第二密封。