[發(fā)明專利]一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010835265.9
• 申請(qǐng)日: 2020-08-19
• 公開（公告）號(hào): CN111850479A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 閆海濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 布勒萊寶光學(xué)設(shè)備（北京）有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 北京知匯林知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11794
• 代理人: 楊華

1.一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，包括真空鍍膜室(1)、工件架、蒸發(fā)源(2)、加熱源和膜料供給機(jī)構(gòu)，所述工件架、蒸發(fā)源(2)、加熱源和膜料供給機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述真空鍍膜室(1)內(nèi)，所述工件架用于安裝待鍍膜工件，所述蒸發(fā)源(2)用于盛放膜料，所述加熱源用于對(duì)所述蒸發(fā)源(2)加熱從而使所述蒸發(fā)源(2)內(nèi)的所述膜料蒸發(fā)，其特征在于：所述膜料供給機(jī)構(gòu)包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空鍍膜室(1)的壁部，所述供料器(41)設(shè)置于所述供料座(31)內(nèi)并適于相對(duì)于所述供料座(31)移動(dòng)，以使在供料狀態(tài)時(shí)所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在鍍膜工作狀態(tài)時(shí)所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)擋閉。

2.如權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述供料器(41)和/或所述供料座(31)上設(shè)置有第一密封結(jié)構(gòu)，以適于在所述鍍膜工作狀態(tài)時(shí)在所述供料器(41)和供料座(31)之間形成第一密封。

3.如權(quán)利要求1所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述供料座(31)與所述壁部之間設(shè)置有第二密封結(jié)構(gòu)，以適于在所述供料座(31)與所述壁部之間形成第二密封。

4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述供料座(31)呈套筒狀，所述供料器(41)呈桿狀并穿設(shè)于所述套筒狀的供料座(31)內(nèi)并適于相對(duì)于所述供料座(31)線性移動(dòng)，以使在所述供料狀態(tài)時(shí)所述供料器(41)的出料口(44)伸出所述供料座(31)外，在所述鍍膜工作狀態(tài)時(shí)所述供料器(41)的出料口(44)縮回所述供料座(31)內(nèi)。

5.如權(quán)利要求4所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述桿狀的供料器(41)前端具有端帽(45)，所述端帽(45)后側(cè)與所述供料座(31)的套筒前端相對(duì)，所述端帽(45)后側(cè)和/或所述套筒前端設(shè)置有第一密封圈，以適于在所述鍍膜工作狀態(tài)時(shí)在所述供料器(41)和供料座(31)之間形成第一密封。

6.如權(quán)利要求4所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述套筒狀的供料座(41)后部具有法蘭盤(33)，所述法蘭盤(33)前側(cè)與所述真空鍍膜室(1)的壁部相對(duì)，所述法蘭盤(33)前側(cè)和/或所述真空鍍膜室(1)的壁部設(shè)置有第二密封圈，以適于在所述供料座(31)與所述壁部之間形成第二密封。

7.如權(quán)利要求4所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述供料器(41)還包括進(jìn)料口(43)和連通所述進(jìn)料口(43)與所述出料口(44)的通道(46)，以適于通過所述進(jìn)料口(43)為所述出料口(44)供給膜料。

8.如權(quán)利要求4所述的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述膜料供給機(jī)構(gòu)還包括線性致動(dòng)器(42)，所述線性致動(dòng)器(42)通過支架(32)固定于所述真空鍍膜室(1)外側(cè)，通過所述線性致動(dòng)器(42)的動(dòng)力桿推動(dòng)所述供料器(41)在所述供料座(31)內(nèi)線性移動(dòng)。