[發(fā)明專利]光刻標(biāo)記、對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及對(duì)準(zhǔn)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010832174.X
• 申請(qǐng)日: 2020-08-18
• 公開（公告）號(hào): CN111948919B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 童立峰;李銘;陳繼華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

1.一種光刻標(biāo)記，其特征在于，用于深尺寸的刻蝕工藝中，所述光刻標(biāo)記包括：遮光結(jié)構(gòu)和感光結(jié)構(gòu)；所述遮光結(jié)構(gòu)上設(shè)有多個(gè)盲孔，所述感光結(jié)構(gòu)填充于多個(gè)所述盲孔內(nèi)并且所述感光結(jié)構(gòu)能夠在一定光照下消失。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻標(biāo)記，其特征在于，多個(gè)所述盲孔均勻分布于所述遮光結(jié)構(gòu)上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻標(biāo)記，其特征在于，相鄰兩個(gè)所述盲孔的中心之間的間距小于0.18微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻標(biāo)記，其特征在于，在設(shè)置有多個(gè)所述盲孔的所述遮光結(jié)構(gòu)的表面上，多個(gè)所述盲孔的總面積小于所述遮光結(jié)構(gòu)面積的30％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻標(biāo)記，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)的形狀包括長(zhǎng)方體或回形體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻標(biāo)記，其特征在于，所述盲孔的截面的形狀包括矩形、圓形或三角形。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻標(biāo)記，其特征在于，所述光刻標(biāo)記的材質(zhì)為光刻膠。

8.一種對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括至少一個(gè)如權(quán)利要求1～7中任意一項(xiàng)所述光刻標(biāo)記；其中，

所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)置于第一襯底上；

所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)置于第二襯底上，所述第二襯底位于所述第一襯底上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括多個(gè)所述光刻標(biāo)記，多個(gè)所述光刻標(biāo)記組合成長(zhǎng)方體或回形體。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形狀包括長(zhǎng)方體或回形體。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的厚度小于或等于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的厚度。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的尺寸大于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在所述第一襯底上的投影在所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記內(nèi)。

14.一種對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，使用如權(quán)利要求8～13中任意一項(xiàng)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述對(duì)準(zhǔn)方法包括：

機(jī)臺(tái)提供一光束，所述光束照射于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記上以使所述感光結(jié)構(gòu)消失；

通過多個(gè)所述盲孔測(cè)量并計(jì)算出所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)于所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的偏移量；

根據(jù)所述偏移量調(diào)整所述機(jī)臺(tái)參數(shù)。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述偏移量包括第一方向上的偏移量和第二方向上的偏移量；其中，所述第一方向和所述第二方向相互垂直。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述偏移量的計(jì)算方法如下：

其中，e₁為第一方向上的偏移量；

e₂為第二方向上的偏移量；

Δx₁為第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在第一方向上相同的一側(cè)邊之間的距離；

Δx₂為第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在第一方向上相同的另一側(cè)邊之間的距離；

Δy₁為第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在第二方向上相同的一側(cè)邊之間的距離；

Δy₂為第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在第二方向上相同的另一側(cè)邊之間的距離。