[發(fā)明專利]一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010831401.7 | 申請日： | 2020-08-18 |
| 公開（公告）號： | CN112111051A | 公開（公告）日： | 2020-12-22 |
| 發(fā)明（設計）人： | 謝傳欣 | 申請（專利權）人： | 青島科技大學 |
| 主分類號： | C08G63/06 | 分類號： | C08G63/06;C08G63/82;C08G63/83;C08G63/84;C08G63/85;C08G63/86 |
| 代理公司： | 山東重諾律師事務所 37228 | 代理人： | 孫瑋 |
| 地址： | 266000 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 內(nèi)酯 低聚物 合成 工藝 | ||
1.一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：包括如下步驟：
1)將6-羥基己酸酯、第一催化劑先聚合反應3-20h；
2)聚合結束后加入第二催化劑和溶劑，反應3-24h后，將產(chǎn)品和溶劑分離，得到聚己內(nèi)酯低聚物。
2.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟1)中，第一催化劑選自辛酸亞錫、鈦酸四丁酯、四氯化鈦、三氯化鈦、三氯氧釩中的一種或幾種。
3.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟1)中，第一催化劑用量為6-羥基己酸酯的0.001％-5％。
4.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟1)中，聚合反應溫度100-200℃，壓力絕壓0.005-0.1MPa、時間3-20h。
5.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟2)中，第二催化劑選自乙酸鈷、乙二醇銻、錳、鋅、鈣、鈷、鉛的醋酸鹽、無定形硅酸鋁、ZSM-5型分子篩中的一種或幾種。
6.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟2)中，第二催化劑用量為6-羥基己酸酯的0-5％。
7.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟2)中，溶劑選自THF、DMSO、氯仿、DMF、乙二醇苯醚、甘油、三硝基苯、聚乙二醇單甲醚、聚乙二醇二甲醚、硝基苯中的一種或幾種。
8.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟2)中，溶劑用量為6-羥基己酸酯的0-300％。
9.如權利要求1所述的一種己內(nèi)酯低聚物的合成工藝，其特征在于：步驟2)中，反應溫度在100-350℃之間，反應壓力在絕壓0.005-0.1MPa，反應時間在3-24h之間。
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