[發(fā)明專利]一種增加爬電距離的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)及其封裝方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010828782.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111916407A | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱袁正;王燕軍;朱久桃;李明芬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫電基集成科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/29 | 分類號(hào): | H01L23/29;H01L23/31;H01L21/56 |
| 代理公司: | 無錫市匯誠永信專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 曹慧萍 |
| 地址: | 214000 江蘇省無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 增加 距離 半導(dǎo)體 封裝 結(jié)構(gòu) 及其 方法 | ||
1.一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其包括殼體、若干個(gè)由內(nèi)部芯片引出的貫穿所述殼體的引線,其特征在于,至少一個(gè)所述引線上包覆有凸緣,所述凸緣位于所述引線與殼體外表面相鄰的部位;或至少一個(gè)所述引線上包覆有凸緣,同時(shí)相鄰兩個(gè)所述引線之間開有凹槽,所述凹槽的兩端分別貫穿所述殼體的頂端端面和底端端面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,每個(gè)所述凹槽的中部均設(shè)置有凸塊,所述凸塊的兩端向兩側(cè)延伸并貫穿所述殼體的上表面、下表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3任一項(xiàng)所述的一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述凸緣平行于所述引線伸出方向并凸出于所述殼體的外表面,所述凸緣由所述殼體的外表面沿所述引線向外延伸的距離為100微米~3毫米。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述凹槽由所述殼體的一側(cè)端面向內(nèi)凹陷,所述凹陷的深度為100微米~3毫米。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述引線的數(shù)量為三個(gè),分別為:第一引線、第二引線、第三引線,所述第一引線、第二引線、第三引線沿所述殼體的一側(cè)端順序設(shè)置,所述凹槽位于所述第一引線與所述第二引線之間、或所述第二引線與所述第三引線之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一引線、第三引線凸出于所述殼體的部位分別包覆有所述凸緣,所述第一引線與所述第二引線之間、所述第二引線與所述第三引線之間分別開有所述凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種增加爬電距離的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二引線凸出于所述殼體的部位包覆有所述凸緣。
8.一種實(shí)現(xiàn)上述權(quán)利要求1、6或7任一項(xiàng)封裝結(jié)構(gòu)封裝的方法,其特征在于,采用環(huán)氧樹脂將所述芯片及所述引線的一端密封封裝,所述引線之間的爬電路徑上設(shè)置有若干個(gè)所述凸緣,或至少一個(gè)所述引線上包覆有凸緣,同時(shí)所相鄰兩個(gè)述引線之間開有凹槽,所述凸緣與所述殼體一體成型,或所述凸緣、凹槽與所述殼體一體成型。
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