[發明專利]一種表征納米材料穩定性的方法

有效

• 申請號: 202010824858.5
• 申請日: 2020-08-17
• 公開（公告）號: CN111965391B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 沈彩;陳立杭;劉兆平
• 申請（專利權）人: 中國科學院寧波材料技術與工程研究所
• 主分類號: G01Q60/24
• 分類號: G01Q60/24;G01Q30/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 楊威

1.一種表征納米材料穩定性的方法，包括以下步驟：

a)采用原子力顯微鏡的峰值力輕敲模式對待測的納米材料進行原位掃描，得到不同時間的形貌圖；所述峰值力輕敲模式的懸臂共振頻率為2kHz；所述原位掃描的峰值力為0.2nN～1.4nN，掃描范圍為0.5μm×0.5μm～10μm×10μm，掃描速率為0.1Hz～30Hz；所述不同時間的形貌圖的時間間隔為4min～15min；

b)通過對步驟a)得到的不同時間的形貌圖中選擇區域的面積變化，確定納米刻蝕的速率，得到納米材料穩定性的表征結果；所述選擇區域為不同時間的形貌圖中同一位置的形貌區域；所述納米刻蝕的速率的計算方法具體為：

將兩幅不同時間的形貌圖中，選擇區域的面積減少量除以時間差，得到平均納米刻蝕速率。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟a)中所述原子力顯微鏡的探針選自接觸模式探針、輕敲模式探針或智能模式探針。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，步驟a)中所述探針的懸臂長度為0μm～200μm，彈性系數為0N?m^-1～1.0N?m^-1，共振頻率為0kHz～100kHz。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟a)中所述原位掃描在大氣、室溫條件下進行，或在手套箱中、室溫條件下進行。

5.根據權利要求1～4任一項所述的方法，其特征在于，所述步驟a)還包括：

對待測的納米材料進行預處理后，在原子力顯微鏡的樣品臺固定，再進行原位掃描；

所述預處理的過程具體為：

將待測的納米材料置于裝有無水乙醇的燒杯中，超聲分散后用滴管移取分散好的懸浮液滴到硅片上，室溫下自然干燥，得到預處理后的納米材料。