[發明專利]一種用于光刻機的防震裝置及光刻機

在審

• 申請號: 202010824053.0
• 申請日: 2020-08-17
• 公開（公告）號: CN111913367A
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 葛俊海;黃麗輝;戴成杰;趙永杰
• 申請（專利權）人: 國為（南京）軟件科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F16F15/02;F16F15/023
• 代理公司: 北京律和信知識產權代理事務所(普通合伙) 11446
• 代理人: 劉興;項榮

本發明公開了一種用于光刻機的防震裝置，具體涉及零部件檢測領域，包括主體基座、氣壓密封器和磁懸防震機構，磁懸防震機構與氣壓密封器分別安裝在主體基座中，氣壓密封器通過釋放氣體，磁懸防震機構包括磁懸移動板、密封滑球和導向板，所述磁懸移動板內嵌在所述導向板中，所述磁懸移動板在所述導向板中滑動安裝；所述密封滑球活動安裝在磁懸移動板與導向板之間；本發明還公開了采用該防振裝置的光刻機。該裝置結構合理簡單、生產成本低、安裝方便，功能齊全，能滿足該光刻機對基座的剛性需求和防微震要求，能夠減少振動，進一步地提高加工精度。

技術領域

本發明涉及光刻機輔助防震裝置，具體涉及一種用于光刻機的防震裝置及光刻機。

背景技術

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。意思是用光來制作一個圖形(工藝)；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

其中工件主體基座顧名思義就是放工件的平臺，由于光刻加工的精度要求高，所以需要一個能夠具備減少內部振動傳遞至工件主體基座的裝置。

發明內容

針對現有技術存在的不足，本發明提供一種用于光刻機的防震裝置，能夠減少光刻機工作時的振動，同時減少外部振動的傳播，提高加工精度。

為了實現上述目的，本發明是通過如下的技術方案來實現：一種用于光刻機的防震裝置，包括：磁懸防震機構，所述磁懸防震機構包括磁懸移動板、密封滑球和導向板，所述磁懸移動板內嵌在所述導向板中，所述磁懸移動板在所述導向板中滑動安裝；所述密封滑球活動安裝在磁懸移動板與導向板之間；所述磁懸移動板具有多個密封隔層，所述密封隔層位于磁懸移動板兩側位置，且上下兩側均有設置；所述密封隔層之間的距離，在遠離導向板的方向，距離逐漸減少；所述導向板具有密封間層，所述密封間層位于導向板中，靠近磁懸移動板方向，且同時設置在上下兩側，所述密封間層位與所述密封隔層錯位無接觸相對安裝；所述密封隔層具有磁性，所述密封間層具有磁性，所述密封間層位與所述密封隔層磁性相反。

進一步的，還包括主體基座與氣壓密封器，所述氣壓密封器固定安裝在主體基座中，用于對磁懸防震機構中的磁懸移動板與導向板，進行氣封。

進一步的，所述主體基座包括主體、支撐立柱、隔層地腳和吸震器，所述支撐立柱設置在主體下，位于主體四角處，所述隔層地腳固定安裝在所述支撐立柱下，所述吸震器一面固定安裝在所述支撐立柱上，吸震器另一面固定安裝在所述主體下。

進一步的，所述吸震器包括殼體、釋壓孔與傳遞件，所述殼體中裝入有防凍液、所述釋壓孔設在殼體表面，所述傳遞件固定設置在殼體內表面，并延伸至防凍液的液位中；

所述傳遞件具有傳遞鏟面與固定段，所述固定段設置在靠近殼體內表面處，所述傳遞鏟面設置在固定段上，用于將振動傳遞給防凍液中。

上述用于光刻機的防震裝置的有益效果是：

(1)本發明結構合理簡單、生產成本低、安裝方便，功能齊全，能滿足該光刻機對基礎座的剛性需求和防微震要求，以及提供其配套設備的安裝環境；

(2)通過磁懸方式，將用于光刻刻蝕的移動板進行懸浮，極大的減少了外部振動帶來加工誤差，進一步地提高了加工精度。

(3)在磁懸移動板具有多個密封隔層與導向板具有多個密封間層，兩者兩兩間隔相對安裝，且通過密封滑球防止其左右相撞，并通過密封隔層與密封間層的磁性相反，避免上下碰撞，減少損傷。

本發明的另一目的是提供一種光刻機，包括上述的用于光刻機的防震裝置。

進一步的，該光刻機采用紫外光作為光源。

進一步的，所述紫外光的波長在10-365nm之間。