[發(fā)明專利]一種用于光刻機(jī)的防震裝置及光刻機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010824053.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-17
• 公開（公告）號(hào): CN111913367A
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葛俊海;黃麗輝;戴成杰;趙永杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 國為（南京）軟件科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;F16F15/02;F16F15/023
• 代理公司: 北京律和信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11446
• 代理人: 劉興;項(xiàng)榮

1.一種用于光刻機(jī)的防震裝置，其特征在于，包括：

磁懸防震機(jī)構(gòu)，所述磁懸防震機(jī)構(gòu)包括磁懸移動(dòng)板、密封滑球和導(dǎo)向板，所述磁懸移動(dòng)板內(nèi)嵌在所述導(dǎo)向板中，所述磁懸移動(dòng)板在所述導(dǎo)向板中滑動(dòng)安裝；

所述密封滑球活動(dòng)安裝在磁懸移動(dòng)板與導(dǎo)向板之間；

所述磁懸移動(dòng)板具有多個(gè)密封隔層，所述密封隔層位于磁懸移動(dòng)板兩側(cè)位置，且上下兩側(cè)均有設(shè)置；

所述導(dǎo)向板具有多個(gè)密封間層，所述密封間層位于導(dǎo)向板中，靠近磁懸移動(dòng)板方向，且同時(shí)設(shè)置在上下兩側(cè)，所述密封間層位與所述密封隔層錯(cuò)位無接觸相對(duì)安裝。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機(jī)的防震裝置，其特征在于，還包括主體基座與氣壓密封器，所述氣壓密封器固定安裝在主體基座中，用于對(duì)磁懸防震機(jī)構(gòu)中的磁懸移動(dòng)板與導(dǎo)向板，進(jìn)行氣封。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于光刻機(jī)的防震裝置，其特征在于，所述主體基座包括主體、支撐立柱、隔層地腳和吸震器，所述支撐立柱設(shè)置在主體下，位于主體四角處，所述隔層地腳固定安裝在所述支撐立柱下，所述吸震器一面固定安裝在所述支撐立柱上，所述吸震器另一面固定安裝在所述主體下。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于光刻機(jī)的防震裝置，其特征在于，所述吸震器包括殼體、釋壓孔與傳遞件，所述殼體中裝入有防凍液、所述釋壓孔設(shè)在殼體表面，所述傳遞件固定設(shè)置在殼體內(nèi)表面，并延伸至防凍液的液位中；

所述傳遞件具有傳遞鏟面與固定段，所述固定段設(shè)置在靠近殼體內(nèi)表面處，所述傳遞鏟面設(shè)置在固定段上，用于將振動(dòng)傳遞給防凍液中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機(jī)的防震裝置，其特征在于，所述密封隔層之間的距離，在遠(yuǎn)離導(dǎo)向板的方向，距離逐漸減少。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機(jī)的防震裝置，其特征在于，所述密封隔層具有磁性，所述密封間層具有磁性，所述密封間層位于所述密封隔層磁性相反。

7.一種光刻機(jī)，其特征在于：包括如權(quán)利要求1-6中任一所述的用于光刻機(jī)的防震裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)采用紫外光作為光源。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種光刻機(jī)，其特征在于，所述紫外光的波長在10-365nm之間。