[發明專利]一種原位原子層沉積掃描電子顯微鏡

在審

• 申請號: 202010823490.0
• 申請日: 2020-08-17
• 公開（公告）號: CN111952138A
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 張躍飛;屠金磊;張澤
• 申請（專利權）人: 浙江祺躍科技有限公司
• 主分類號: H01J37/28
• 分類號: H01J37/28;C23C16/455;C23C16/52;F16F15/02;F16M7/00;F16M11/42
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 代芳

本發明公開一種原位原子層沉積掃描電子顯微鏡，涉及原位測試領域，包括機架，所述機架上設置有電鏡腔室，所述電鏡腔室一側設置有開口，所述電鏡腔室一側的開口端固定連接有密封閥，所述密封閥遠離所述電鏡腔室的一側固定安裝有原子層沉積室，所述原子層沉積室遠離所述密封閥的一側固定安裝有水平設置的磁力桿，所述磁力桿內活動穿設有磁力桿軸，所述磁力桿軸端部能夠水平運動于原子層沉積室或電鏡腔室內；所述電鏡腔室頂部密封安裝有電子槍，所述電鏡腔室底部密封連接有分子泵。本發明能夠進行原位原子層沉積的測試，且能對原子層沉積薄膜后材料的微觀形貌全程動態監測。

技術領域

本發明涉及原位測試技術領域，特別是涉及一種原位原子層沉積掃描電子顯微鏡。

背景技術

原位測試技術的應用對材料學的發展起到了推動作用，材料測試過程中，通過電子顯微鏡對材料微觀形貌進行全程動態監測，能夠更深入地揭示各類材料及其制品的微觀形貌。

工業生產中為了改善各種各樣材料的性能，進行表面涂層是應用最廣泛的方法之一，目前制備方法主要有物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、溶膠-凝膠法(sol-gel)、原子層沉積(ALD)。其中，原子層沉積技術作為一種特殊的化學氣相沉積技術，制備的涂層相比于其他方法具有多種優點。原子層沉積(ALD)技術正逐漸成為了微電子器件制造，半導體領域的必要技術。

目前，已有的裝置無法進行原位原子層沉積的測試，且不能對原子層沉積薄膜后材料的微觀形貌全程動態監測，因此開發原位原子層沉積測試系統，對研究材料薄膜的形貌具有重要意義。

發明內容

本發明的目的是提供一種原位原子層沉積掃描電子顯微鏡，以解決上述現有技術存在的問題，能夠進行原位原子層沉積的測試，且能對原子層沉積薄膜后材料的微觀形貌全程動態監測。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：

本發明提供一種原位原子層沉積掃描電子顯微鏡，包括機架，所述機架上設置有電鏡腔室，所述電鏡腔室一側設置有開口，所述電鏡腔室一側的開口端固定連接有密封閥，所述密封閥遠離所述電鏡腔室的一側固定安裝有原子層沉積室，所述原子層沉積室遠離所述密封閥的一側固定安裝有水平設置的磁力桿，所述磁力桿內活動穿設有磁力桿軸，所述磁力桿軸端部能夠水平運動于原子層沉積室或電鏡腔室內；所述電鏡腔室頂部密封安裝有電子槍，所述電鏡腔室底部密封連接有分子泵。

可選的，所述機架上固定安裝有減震臺，所述電鏡腔室固定設置于所述減震臺上；所述減震臺上開設有通孔，所述分子泵通過所述減震臺的通孔與所述電鏡腔室連接。

可選的，所述電鏡腔室側壁上設置有觀察窗，所述觀察窗采用透明材質制成。

可選的，所述機架底部對稱設置有四個地腳，所述地腳的高度能夠調節。

可選的，所述機架底部安裝有滾輪，所述滾輪設置于相鄰兩個所述地腳之間。

可選的，所述電鏡腔室底部對稱設置有四個墊塊，所述電鏡腔室通過墊塊與所述減震臺固定連接。

本發明相對于現有技術取得了以下技術效果：

本發明結構簡單、使用方便，能夠進行原位原子層沉積的測試，且能對原子層沉積薄膜后材料的微觀形貌全程動態監測；減震臺能夠消除振動以免影響設備。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明原位原子層沉積掃描電子顯微鏡結構示意圖；

圖2為本發明原位原子層沉積掃描電子顯微鏡內試樣鍍膜狀態示意圖；