[發(fā)明專利]光刻膠的涂膠方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010819906.1
• 申請(qǐng)日: 2020-08-14
• 公開（公告）號(hào): CN111905988B
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賀曉彬;張青竹;殷華湘;李俊峰;李亭亭;劉金彪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號(hào): B05D1/00
• 分類號(hào): B05D1/00;B05D1/02;B05D7/00;G03F7/16
• 代理公司: 北京辰權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11619
• 代理人: 金銘

1.一種光刻膠的涂膠方法，其特征在于，包括以下步驟：

硅片保持靜止，控制噴膠裝置移動(dòng)至硅片的第一位置；

控制所述硅片旋轉(zhuǎn)，所述噴膠裝置向所述硅片噴射光刻膠，加速所述硅片的旋轉(zhuǎn)，所述硅片至少在預(yù)設(shè)時(shí)間段內(nèi)的旋轉(zhuǎn)速度以脈沖的方式變化；

所述脈沖的波形為方波；

所述方波波峰處的旋轉(zhuǎn)速度為4500rpm，所述方波波谷處的旋轉(zhuǎn)速度為3000rpm；

在所述方波中，所述波峰與所述波谷維持的時(shí)間相同；

在所述噴膠裝置向所述硅片噴射光刻膠之前還包括以下步驟：所述硅片先加速，接著減速到靜止以在所述硅片上噴涂連接劑，接著再加速，然后減速；

所述硅片至少在預(yù)設(shè)時(shí)間段內(nèi)的旋轉(zhuǎn)速度以脈沖的方式變化之后還包括以下步驟：所述硅片先減速，然后再減速到一個(gè)固定的旋轉(zhuǎn)速度，持續(xù)一段時(shí)間以對(duì)所述硅片的邊緣進(jìn)行甩膠，最后減速到靜止，在該步驟中，會(huì)對(duì)硅片進(jìn)行洗邊和清洗硅片背面的處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠的涂膠方法，其特征在于，所述第一位置為所述硅片的中心位置處。