[發明專利]一種二次投料的控制方法、系統及計算機存儲介質

在審

• 申請號: 202010819440.5
• 申請日: 2020-08-14
• 公開（公告）號: CN114075693A
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術有限公司
• 主分類號: C30B15/20
• 分類號: C30B15/20;C30B29/06;C30B15/02
• 代理公司: 西安維英格知識產權代理事務所(普通合伙) 61253
• 代理人: 李斌棟;沈寒酉

1.一種二次投料的控制系統，其特征在于，所述系統包括：控制裝置、第一移動裝置、監測裝置以及第二移動裝置；其中，

所述控制裝置設置于拉晶爐內或所述拉晶爐外；所述第一移動裝置設置于籽晶纜上，基于所述控制裝置的指令以控制籽晶纜的下移或上升；所述監測裝置安裝至所述拉晶爐中爐內通道內壁的托架，以監測二次投料裝置中的延伸件是否接觸并搭載于所述托架上；所述第二移動裝置安裝于所述二次投料裝置內的吊桿，基于所述控制裝置的指令以控制所述吊桿的下移以實現錐形活門的下移或上升。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述控制裝置，經配置為向所述第一移動裝置發送第一指令；

所述第一移動裝置，經配置為基于所述第一指令下移所述籽晶纜以使得所述二次投料裝置按照所述第一指令的由初始位置按照設定的第一速度下移；

所述監測裝置，經配置為檢測所述二次投料裝置中的延伸件是否與所述拉晶爐中爐內通道內壁的托架接觸；以及，相應于所述延伸件與所述托架接觸，向所述控制裝置傳輸用于表征接觸狀態的信號；

所述控制裝置，還經配置為基于所述用于表征接觸狀態的信號固定所述二次投料裝置搭載于所述托架之上，并向所述第二移動裝置發送第二指令；

所述第二移動裝置，經配置為基于所述第二指令下移所述吊桿以使得所述錐形活門根據所述第二指令按照設定的第二速度下移至設定的目標位置，以將裝盛于所述二次投料裝置中的多晶硅原料投放至所述拉晶爐內的石英坩堝中；其中，所述第二速度用于控制所述多晶硅原料投放至所述石英坩堝的投放速度。

3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述第一移動裝置，經配置為：基于所述第一指令由初始位置按照設定的初始速度下移所述籽晶纜至預設的距離；以及，當所述籽晶纜下移至所述預設的距離后，基于所述第一指令按照設定的接觸速度繼續下移所述籽晶纜；其中，所述初始速度大于所述接觸速度。

4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述監測裝置，具體包括設置于所述托架與所述延伸件接觸面的接觸傳感器；所述接觸傳感器用于判斷所述托架與所述延伸件是否接觸，從而確定所述二次投料裝置是否搭載于所述托架之上。

5.根據權利要求4所述的系統，其特征在于，所述接觸傳感器通過輸出“0”或“1”的信號以表征所述托架與所述延伸件之間的接觸狀態；其中，當所述托架與所述延伸件之間沒有接觸的時候，所述接觸傳感器輸出“0”信號；當所述托架與所述延伸件之間接觸的時候，所述接觸傳感器輸出“1”信號。

6.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述控制裝置，還經配置為：

當接收到所述監測裝置所傳輸的用于表征接觸狀態的信號之后，立即向所述第一移動裝置發送停止指令，以指示所述第一移動裝置停止下移所述籽晶纜，從而將所述二次投料裝置固定于所述托架之上不再向下移動。

7.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述控制裝置，還經配置為發送完成所述第二指令且等待設定的時間段后，向所述第一移動裝置以及所述第二移動裝置發送第三指令；相應地，所述第一移動裝置，還經配置為執行所述第三指令以上升所述籽晶纜使得所述二次投料裝置上升至所述初始位置；所述第二移動裝置，還經配置為執行所述第三指令以上升所述吊桿使得所述錐形活門封閉所述二次投料裝置中加料筒的投料口。

8.一種二次投料的控制方法，其特征在于，所述方法包括：

下移籽晶纜使得二次投料裝置由初始位置按照設定的第一速度下移；

在下移所述籽晶纜的過程中，檢測所述二次投料裝置中的延伸件是否與拉晶爐中爐內通道內壁的托架接觸；

相應于所述延伸件與所述托架接觸，下移吊桿使得錐形活門按照設定的第二速度下移至設定的目標位置，以將裝盛于所述二次投料裝置中的多晶硅原料投放至所述拉晶爐內的石英坩堝中；其中，所述第二速度用于控制所述多晶硅原料投放至所述石英坩堝的投放速度。