[發(fā)明專利]一種金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010818319.0 | 申請日： | 2020-08-14 |
| 公開（公告）號： | CN111962025A | 公開（公告）日： | 2020-11-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆山市恒鼎新材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/16 | 分類號： | C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 蘇州智品專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32345 | 代理人： | 王利斌 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 金屬件 表面 pvd 透明 絕緣 工藝 | ||
1.一種金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，包含以下步驟：步驟S01、將鍍有顏色層的金屬件超聲波清洗后放入真空爐中，將真空爐抽真空至其本底真空度為（1.0-6.0）*10-3 Pa，將金屬件加熱烘干；
步驟S02、向上述真空爐內(nèi)通入氬氣，使其真空度達到 （5.0-9.0）*10-1 Pa，靶電流為0.1-0.5A或靶電壓為100-250V，工件偏壓電壓為200-600V，占空比為30%-80%，對金屬件進行離子清洗；
步驟S03、關(guān)閉氬氣和工件偏壓，將真空爐抽真空至真空度為（1.0-6.0）*10-3 Pa，隨后，以50-500sccm的流量向真空室內(nèi)通入氬氣，使其內(nèi)真空度維持在10-1 Pa數(shù)量級的動態(tài)平衡壓強；
步驟S04、控制真空爐內(nèi)溫度為100-300℃，采用真空平面磁控濺射法依次為金屬件鍍上Si/Al過渡層和氧化硅/氧化鋁透明絕緣層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，步驟S01中，金屬件的烘干溫度為100-300℃，烘干時間為30-90 min。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，步驟S02中氬氣的通入流量為200-600sccm，金屬件離子清洗時間為30-120min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，步驟S04中，真空平面磁控濺射法鍍膜的濺射電源為中頻電源，其頻率為20-180 KHz，功率為 20-60KW。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，步驟S04中，過渡層和透明絕緣層鍍膜時的靶電流為20-40A，靶電壓為300-600V，鍍膜時間為2-10min，工件偏壓電壓為0-200V，占空比為20%-80%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，步驟S04中，透明絕緣層的層數(shù)為1-15層，單層的鍍膜時間為10-180min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，其特征在于，步驟S04中，透明絕緣層鍍膜時，氮氣的通入流量為50-500sccm，氧氣的通入流量為40-100sccm。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
