[發明專利]一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑

在審

• 申請號: 202010816243.8
• 申請日: 2020-08-14
• 公開（公告）號: CN112180682A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 楊欣;崔淑杰;賈宏平;李永強
• 申請（專利權）人: 陜西彩虹新材料有限公司
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/004;G03F7/016
• 代理公司: 北京卓特專利代理事務所(普通合伙) 11572
• 代理人: 段宇

本發明公開了一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑。本發明所涉及的正性光刻膠添加劑包括親脂性非離子型表面活性劑和粘度增加劑兩部分，其中親脂性非離子型表面活性劑主要為含硅的低聚物表面活性劑和含氟的表面活性劑。由于傳統使用重氮萘醌磺酸酯作為感光劑的正性光刻膠雖然分辨率高，圖案線條清晰度高，但是其難于精制，烘干過程中易產生縮孔，粘附性和穩定性較差。本專利公布的添加劑組分有利于減少孔洞的發生，容易制得表面性能優越的正性光刻膠。

技術領域：

本發明屬于光刻膠的制備領域，具體涉及一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑組分

背景技術：

隨著液晶面板的應用越來越廣泛，在市場帶領下，其已經逐漸向大型與低成本化發展。作為精細加工的關鍵性材料，光刻膠已被廣泛用于光電信息工程與微細圖形的制備。隨著國家的大力研發和投入，目前國內企業已經逐步從低端PCB光刻膠發展至液晶面板甚至終端光刻膠的量產。

光刻膠主要由感光樹脂、光敏劑、溶劑和添加劑組成。在紫外光、電子束等照射或輻射下，其溶解度會發生變化，經過適當的顯影，除去可溶性部分，可得到所需圖像。光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠兩類，隨著集成電路的多樣化，對光刻膠的要求也更高。其中正性光刻膠是液晶顯示行業和微細圖形加工的關鍵材料。目前的正性光刻膠主要含有重氮萘醌感光基團，在光照下進行反應，其分辨率高，圖形線條清晰，靈敏度高。但是也有一些缺點，如粘附性較弱，穩定性差，在溶劑揮發過程中易產生縮孔等，這些都很大程度上限制了正性光刻膠的更廣闊發展。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明的目的在于提供了一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑組分，可以制備出粘附性良好、涂覆性能穩定、無縮孔現象的正性光刻膠。

為了實現上述目的，本發明采用的技術方案是：一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑，包括親脂性非離子型表面活性劑和粘度增加劑兩部分，其中親脂性非離子型表面活性劑主要為含硅的低聚物表面活性劑和含氟的表面活性劑。

在一個實施例中，含硅的低聚物表面活性劑為聚硅氧烷類或改性聚硅氧烷類或非硅聚合物。

在一個實施例中，所述含氟的表面活性劑為全氟磺酰基化合物類。

在一個實施例中，所述粘度增加劑為甲基丙烯酸酯類、聚醚改性丙烯酸酯類、羥基乙基類其中的一種。

在一個實施例中，所述含氟的表面活性劑、含硅的低聚物表面活性劑和粘度增加劑的質量比為1：(5-10)：(1-5)。

本發明的主要有益效果是：

由于傳統使用重氮萘醌磺酸酯作為感光劑的正性光刻膠雖然分辨率高，圖案線條清晰度高，但是其難于精制，烘干過程中易產生縮孔，粘附性和穩定性較差。本專利公布的添加劑組分有利于減少孔洞的發生，容易制得表面性能優越的正性光刻膠。

具體實施方式：

下面結合實施例對本發明做進一步詳細說明。

實施例一：

一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑，由聚硅氧烷類、全氟磺酰基化合物類和甲基丙烯酸酯類組成，其質量比為聚硅氧烷類：全氟磺酰基化合物類：甲基丙烯酸酯類＝5:1:1，即由52.3g聚硅氧烷類、5.23g全氟磺酰基化合物類和5.23g甲基丙烯酸酯類組成。

實施例二：

一種表面性能優越的正性光刻膠添加劑，由聚硅氧烷類、全氟磺酰基化合物類和羥基乙基類組成，其質量比為聚硅氧烷類：全氟磺酰基化合物類：羥基乙基類＝6.4:1:3.7，即由64.0g聚硅氧烷類、10.0g全氟磺酰基化合物類和37.0g羥基乙基類組成。

實施例三：