[發明專利]一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法

在審

• 申請號: 202010813324.2
• 申請日: 2020-08-13
• 公開（公告）號: CN111941155A
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 朱永遷;侯建偉;朱猛;權立振;曹連連
• 申請（專利權）人: 蚌埠中光電科技有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B37/20;B24B37/34
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所(普通合伙) 34113
• 代理人: 陳俊

本發明公開一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法，先研磨盤固定于研磨盤支架下方,然后將研磨墊的非研磨面粘貼５～10mm厚的高密度海綿層，高密度海綿層的密度為0.3g／cm³士0.08，吸水率小于20％土10；再將高密度海綿層粘貼在研磨盤底面，使研磨墊的研磨面朝下；研磨盤帶動研磨墊旋轉下壓至待研磨玻璃表面，高密度海綿層作為緩沖層，在研磨墊下壓過程中對下壓壓力逐漸釋放；該方法對研磨墊進行優化處理，能夠減緩研磨頭下壓和啟動過程研磨墊對玻璃表面的沖擊造成的研磨缺陷，提高研磨效果。

技術領域

本發明涉及玻璃面研磨技術領域，具體是一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法。

背景技術

傳統的玻璃面研磨技術研磨墊都比玻璃要大，可以全覆蓋玻璃表面，在下壓和啟動的過程中，研磨墊邊緣不接觸玻璃表面和玻璃邊緣。由于目前8.5代基板玻璃規格很大,最大基板尺寸2250mmx2600mm，要做到全覆蓋研磨頭直徑不小于3000mm，客觀上很難實現。因此現選用多組并列式研磨頭的工藝方案，研磨頭面積相對玻璃面積覆蓋率約為50-70%，研磨頭未做到全覆蓋玻璃表面。

玻璃的面研磨需要使用研磨墊對基板玻璃的表面進行研磨，采用多組并列式研磨頭，多組并列式研磨頭固定在研磨頭支架上，研磨頭支架在X軸和Y軸兩個水平方向可平行移動。研磨頭Z軸方向采用電液比例閥控制升降缸上下移動。研磨頭底部采用研磨盤支架，研磨盤使用緊固螺絲固定在研磨盤支架上，研磨墊使用雙面膠粘貼在研磨盤上。玻璃基板使用吸附墊吸附固定在托盤上，處于下方相對靜止狀態。

在研磨頭下壓和啟動過程中，研磨墊與玻璃接觸面由于扭矩的變化，可能產生兩種研磨缺陷：

1、研磨墊邊緣可能影響玻璃表面研磨的均一性產生弧形研磨痕。這種痕跡的指標性特征是玻璃微波紋度W值較大，在液晶面板成合后形成彩虹不良。

2、同時對玻璃邊緣造成沖擊產生掉片，掉邊在玻璃和研磨墊之間產生硬劃傷，這種劃傷的指標性特征是在射燈使用投射光法檢驗可見。在液晶面板成合時形成斷路。

綜上所述傳統的面研磨由于研磨頭可以做到對玻璃表面全覆蓋，所以不產生以上兩種研磨缺陷。而現有的多組并列式研磨頭的工藝方案，研磨頭面積相對玻璃面積覆蓋率約為50-70%，研磨頭未做到全覆蓋玻璃表面，研磨頭在下壓和啟動過程中可能產生上述兩種研磨缺陷。目前僅靠吸附墊的緩沖，不足以消除下壓和啟動的沖擊產生以上兩種缺陷出現。

發明內容

本發明的目的在于提供一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法，該方法對研磨墊進行優化處理，能夠減緩研磨頭下壓和啟動過程研磨墊對玻璃表面的沖擊造成的研磨缺陷，優化研磨效果。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法，先研磨盤固定于研磨盤支架下方, 然后將研磨墊的非研磨面粘貼５～10mm厚的高密度海綿層，高密度海綿的密度為0.3g／cm³士0.08，吸水率小于20％土10；再將高密度海綿層粘貼在研磨盤底面，使研磨墊的研磨面朝下；

研磨盤帶動研磨墊旋轉下壓至待研磨玻璃表面，高密度海綿層作為緩沖層，在研磨墊下壓過程中對下壓壓力逐漸釋放。

本發明的有益效果是，在研磨墊與研磨盤之間設置具有特定要求的高密度海綿，研磨盤帶動研磨墊旋轉下壓至待研磨玻璃表面，高密度海綿層作為緩沖層，在研磨墊下壓過程中對下壓壓力逐漸釋放；從而在研磨頭啟動和下壓過程中減少研磨墊對玻璃表面和邊緣的過度沖擊，降低研磨缺陷的產生，有效改善面研磨后玻璃的表面的質量。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明：

圖1是本發明的示意圖；

圖2是采用傳統方法研磨的玻璃缺陷位置分布圖；