[發(fā)明專利]一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010813324.2 | 申請(qǐng)日： | 2020-08-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111941155A | 公開（公告）日： | 2020-11-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 朱永遷;侯建偉;朱猛;權(quán)立振;曹連連 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蚌埠中光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B24B1/00 | 分類號(hào)： | B24B1/00;B24B37/20;B24B37/34 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 34113 | 代理人： | 陳俊 |
| 地址： | 233000 安徽*** | 國(guó)省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 消除 玻璃 研磨 痕跡 處理 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種消除玻璃面研磨痕跡的研磨墊處理方法，其特征在于，先研磨盤固定于研磨盤支架下方, 然后將研磨墊的非研磨面粘貼５～10mm厚的高密度海綿層，高密度海綿層的密度為0.3g／cm3士0.08，吸水率小于20％土10；再將高密度海綿層粘貼在研磨盤底面，使研磨墊的研磨面朝下；
研磨盤帶動(dòng)研磨墊旋轉(zhuǎn)下壓至待研磨玻璃表面，高密度海綿層作為緩沖層，在研磨墊下壓過(guò)程中對(duì)下壓壓力逐漸釋放。
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