[發明專利]一種半導體硅片拋光機

有效

• 申請號: 202010811976.2
• 申請日: 2020-08-13
• 公開（公告）號: CN111941267B
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發明（設計）人: 林曉麗;張俊玲
• 申請（專利權）人: 張俊玲
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/34;B24B55/06;B24B41/02
• 代理公司: 深圳科灣知識產權代理事務所(普通合伙) 44585
• 代理人: 鐘斌

本發明涉及拋光設備技術領域，且公開了一種半導體硅片拋光機，包括機座和拋光盤，拋光盤位于機座頂面中部的正上方，機座的中部活動套接有拋光墊，拋光盤底面的中部固定安裝有硅片夾具，所述機座中部的頂部開設有拋光槽，所述拋光槽的內圈與拋光墊外圈活動套接，所述機座內部位于拋光槽的底部固定安裝有雙軸電機，所述機座內部的頂部且位于拋光墊外圈的位置固定安裝有固定環形磁鐵，所述拋光盤底面的外圈開設有磁環槽，所述磁環槽的內部活動套接有位于固定環形磁鐵正上方的活動環形磁鐵，所述機座頂端內部開設有環狀的海綿環槽，所述海綿環槽的底部固定安裝有吸水海綿，通過這些設置可以提高拋光的效果，同時保證拋光液的利用率。

技術領域

本發明涉及拋光設備技術領域，具體為一種半導體硅片拋光機。

背景技術

硅片16是一種半導體材料，硅片16在生產中需要進行多種工藝的處理，其中拋光是接近尾聲的一步操作，拋光即對切片研磨后的硅片16表面進行拋光處理從而得到表面更光滑平整的硅片16，拋光采用的拋光機利用拋光墊配合拋光液對硅片16的表面進行拋光，拋光機使用方便，但是在實際中還會存在一些問題：

1、拋光的時候由于拋光墊平面與機座的拋光區域處于同一個平面，而且在進行拋光的時候實際上是對硅片16底部形成的水合膜進行拋光，因此拋光液的液面也較低，這樣在進行轉動拋光的時候就會帶動拋光液旋轉，由于離心力的作用就造成靠近水合膜外圈的拋光液向下凹陷，造成拋光部位拋光液不足的情況，從而影響了拋光的效果，同時拋光液在離心力的作用下也會向四周甩出去，不僅浪費還造成污染；

2、拋光液配合拋光墊進行拋光時需要不斷地滴入拋光液，利用拋光液的流動性將拋光后的小顆粒帶走，拋光液一直源源不斷的使用會很費，同時也無法根據具體的拋光情況控制拋光液的增加，這樣就會導致了拋光液的一部分浪費，不利于生產。

發明內容

針對上述背景技術的不足，本發明提供了一種半導體硅片拋光機，具備拋光效果好、拋光液利用率高的優點，解決了背景技術提出的問題。

本發明提供如下技術方案：一種半導體硅片拋光機，包括機座和拋光盤，拋光盤位于機座頂面中部的正上方，機座的中部活動套接有拋光墊，拋光盤底面的中部固定安裝有硅片夾具，所述機座中部的頂部開設有拋光槽，所述拋光槽的內圈與拋光墊外圈活動套接，所述機座內部位于拋光槽的底部固定安裝有雙軸電機，所述機座內部的頂部且位于拋光墊外圈的位置固定安裝有固定環形磁鐵，所述拋光盤底面的外圈開設有磁環槽，所述磁環槽的內部活動套接有位于固定環形磁鐵正上方的活動環形磁鐵，所述活動環形磁鐵的頂部與磁環槽的頂壁之間固定連接有拉伸彈簧，所述機座頂端內部開設有環狀的海綿環槽，所述海綿環槽的底部固定安裝有吸水海綿，所述機座位于海綿環槽底部的位置均勻開設有單向孔，所述單向孔內圈的底部活動套接有堵頭，所述堵頭的底部固定連接有復位彈簧，所述機座內部位于單向孔底部的位置開設有集液環槽，所述海綿環槽的內腔活動安裝有擠壓頭。

優選的，所述機座位于雙軸電機的底部開設有傳動槽，所述雙軸電機的底部固定連接有主齒輪，所述機座內部位于集液環槽外圈的位置開設有轉動環槽，所述傳動槽的一端與轉動環槽的內圈連通，傳動槽與轉動環槽連通端的中部活動安裝有余主齒輪嚙合的傳動齒輪，所述轉動環槽的底部活動套接有轉動環且轉動環的內圈與傳動齒輪嚙合。

優選的，所述轉動環包括環盤，所述環盤的頂部固定安裝有豎直柱，所述豎直柱的內側與擠壓頭固定連接，所述環盤的內圈固定安裝有齒鍵，所述主齒輪的外徑小于傳動齒輪的外徑，所述傳動齒輪的外徑小于環盤的內徑。

優選的，所述活動環形磁鐵的底部開設有通孔，且該通孔外側的直徑大于內側的直徑，所述固定環形磁鐵的頂部與活動環形磁鐵的底部為異性磁極。

優選的，所述吸水海綿外圈部分結構密度大于內圈部分的結構密度，所述吸水海綿采用延展性和彈性性能大的材料。

優選的，所述拋光墊的水平高度低于機座拋光工作臺面的高度，所述活動環形磁鐵與拋光工作臺面之間留有間隙。