[發(fā)明專利]濾波器和通信基站

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010811151.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-13
• 公開（公告）號(hào): CN111987394A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝振雄;吳亞暉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大富科技（安徽）股份有限公司
• 主分類號(hào): H01P1/20
• 分類號(hào): H01P1/20;H01P1/208
• 代理公司: 深圳市睿智專利事務(wù)所 44209
• 代理人: 郭文姬

1.一種濾波器，包括表面金屬化的介質(zhì)本體，其特征在于：所述介質(zhì)本體包括固定在一起的上下兩層介質(zhì)塊，該介質(zhì)本體的上層介質(zhì)塊和下層介質(zhì)塊分別設(shè)有相對(duì)應(yīng)的介質(zhì)諧振腔，相對(duì)應(yīng)的一對(duì)介質(zhì)諧振腔之間設(shè)有容性耦合結(jié)構(gòu)和/或感性耦合結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾波器，其特征在于：所述上層介質(zhì)塊的介質(zhì)諧振腔設(shè)置在上層介質(zhì)塊的上表面，所述下層介質(zhì)塊的介質(zhì)諧振腔設(shè)置在下層介質(zhì)塊的下表面；所述容性耦合結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在上層介質(zhì)塊底面的第一凹槽和設(shè)置在下層介質(zhì)塊頂面的第二凹槽，所述第一凹槽和第二凹槽連通形成容性耦合槽。

3.一種濾波器，包括表面金屬化的介質(zhì)本體、設(shè)于介質(zhì)本體上的輸入端口和輸出端口，其特征在于：所述介質(zhì)本體包括固定在一起的上下兩層介質(zhì)塊，上層介質(zhì)塊和下層介質(zhì)塊分別設(shè)有至少兩個(gè)介質(zhì)諧振腔、形成相對(duì)應(yīng)的至少兩對(duì)介質(zhì)諧振腔；一對(duì)介質(zhì)諧振腔之間設(shè)有容性耦合結(jié)構(gòu)，與該對(duì)介質(zhì)諧振腔相鄰的另一對(duì)介質(zhì)諧振腔之間設(shè)有感性耦合結(jié)構(gòu)；相鄰兩對(duì)介質(zhì)諧振腔的位于上層介質(zhì)塊的兩個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成感性耦合，位于下層介質(zhì)塊的兩個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成感性耦合，上下兩層介質(zhì)塊上的相鄰兩對(duì)介質(zhì)諧振腔之間形成四腔交叉耦合結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濾波器，其特征在于：所述上層介質(zhì)塊的介質(zhì)諧振腔設(shè)置在上層介質(zhì)塊的上表面，所述下層介質(zhì)塊的介質(zhì)諧振腔設(shè)置在下層介質(zhì)塊的下表面；所述容性耦合結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在上層介質(zhì)塊底面的第一凹槽和設(shè)置在下層介質(zhì)塊頂面的第二凹槽，所述第一凹槽和第二凹槽連通形成容性耦合槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾波器，其特征在于：所述上層介質(zhì)塊與下層介質(zhì)塊焊接。

6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的濾波器，其特征在于：所述感性耦合結(jié)構(gòu)包括上層介質(zhì)塊底面去除金屬層的部分和下層介質(zhì)塊頂面去除金屬層的部分，所述上層介質(zhì)塊底面去除金屬層的部分和下層介質(zhì)塊頂面去除金屬層的部分貼合。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濾波器，其特征在于：所述介質(zhì)本體側(cè)壁分別設(shè)有用于微調(diào)一對(duì)介質(zhì)諧振腔之間容性耦合量或感性耦合量的調(diào)試凹槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濾波器，其特征在于：所述輸入端口包括相通的縱向盲孔和橫向盲孔，所述輸出端口包括相通的縱向盲孔和橫向盲孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求3-8任一項(xiàng)所述的濾波器，其特征在于：所述上層介質(zhì)塊和下層介質(zhì)塊分別設(shè)有三個(gè)介質(zhì)諧振腔、形成相對(duì)應(yīng)的三對(duì)介質(zhì)諧振腔；第一對(duì)介質(zhì)諧振腔之間設(shè)有容性耦合結(jié)構(gòu)，第二對(duì)介質(zhì)諧振腔之間設(shè)有感性耦合結(jié)構(gòu)，第三對(duì)介質(zhì)諧振腔之間設(shè)有容性耦合結(jié)構(gòu)；上層介質(zhì)塊的第一個(gè)介質(zhì)諧振腔和第二個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成感性耦合，下層介質(zhì)塊的第一個(gè)介質(zhì)諧振腔和第二個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成感性耦合，即所述上層介質(zhì)塊的第一個(gè)介質(zhì)諧振腔、第二個(gè)介質(zhì)諧振腔、下層介質(zhì)塊的第一個(gè)介質(zhì)諧振腔和第二個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成四腔交叉耦合結(jié)構(gòu)；上層介質(zhì)塊的第二個(gè)介質(zhì)諧振腔和第三個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成感性耦合，下層介質(zhì)塊的第二個(gè)介質(zhì)諧振腔和第三個(gè)介質(zhì)諧振腔形成感性耦合，所述上層介質(zhì)塊的第三個(gè)介質(zhì)諧振腔、第二個(gè)介質(zhì)諧振腔、下層介質(zhì)塊的第三個(gè)介質(zhì)諧振腔和第二個(gè)介質(zhì)諧振腔之間形成另一四腔交叉耦合結(jié)構(gòu)。

10.一種通信基站，其特征在于：包括如權(quán)利要求1至9任意一項(xiàng)所述的濾波器。