[發(fā)明專利]增強薄膜在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010799659.3 | 申請日: | 2018-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN111876095A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 仲野武史;林圭治;徐創(chuàng)矢;佐佐木翔梧;片岡賢一 | 申請(專利權(quán))人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | C09J7/38 | 分類號: | C09J7/38;C09J7/20;C09J133/04;C09J133/06;C09J133/08;C09J11/06;B32B27/00;B32B27/28;B32B7/12 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 增強 薄膜 | ||
本發(fā)明的增強薄膜(10)具備固著層疊在薄膜基材(1)的一個主面上的粘合劑層(2)。粘合劑層包含含有具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)聚合物和光固化劑的光固化性組合物。光固化性組合物的凝膠率優(yōu)選為60%以上。粘合劑層的25℃下的剪切儲能模量優(yōu)選為1×104~1.2×105Pa。粘合劑層的光固化后的25℃下的剪切儲能模量優(yōu)選為1.5×105~2×106Pa。
本申請是申請日為2018年9月18日、申請?zhí)枮?01880009961.5、發(fā)明名稱為“增強薄膜”的申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及粘貼設(shè)置在裝置表面的增強薄膜。
背景技術(shù)
在顯示器等光學(xué)裝置、電子裝置的表面,存在出于表面保護、賦予耐沖擊性等目的而貼合粘合性薄膜的情況。這種粘合性薄膜通常在薄膜基材的主面固著層疊粘合劑層,夾著該粘合劑層貼合在裝置表面。
在裝置的組裝、加工、運輸?shù)仁褂们暗臓顟B(tài)下,可通過在裝置或裝置構(gòu)成構(gòu)件的表面臨時粘貼粘合性薄膜來抑制被粘物的損傷、破損。這種粘合性薄膜為工程材料,可在裝置的使用前剝離去除。根據(jù)專利文獻1的記載,要求用作工程材料的粘合性薄膜為低粘合性、可容易地從被粘物剝離且不會產(chǎn)生對被粘物的殘膠。
在專利文獻2中公開了一種粘合性薄膜,其除了裝置的組裝、加工、運輸?shù)纫酝猓谘b置的使用時也在貼合于裝置表面的狀態(tài)下使用。這種粘合性薄膜在表面保護的基礎(chǔ)上,具備通過分散對裝置的沖擊、對撓性裝置賦予剛性等而對裝置進行增強的功能。
在將粘合性薄膜貼合于被粘物時,存在產(chǎn)生氣泡的混入、粘貼位置的偏移等貼合不良的情況。在產(chǎn)生貼合不良的情況下,會進行將粘合性薄膜從被粘物剝離并貼合另一粘合性薄膜的操作(再加工)。用作工程材料的粘合性薄膜以從被粘物的剝離為前提進行設(shè)計,因此容易再加工。另一方面,增強薄膜通常未設(shè)想從裝置剝離而是牢固地粘接在裝置的表面,因此難以再加工。
專利文獻3中公開了一種粘合片(粘合劑層),其以剛與被粘物貼合后為低粘合性且粘接力經(jīng)時上升的方式進行了設(shè)計。在薄膜基材上固著層疊有這種粘合劑層的粘合性薄膜由于剛與被粘物貼合后容易從被粘物剝離且在經(jīng)過特定時間后牢固地粘接于被粘物,因此可作為具有再加工性的增強薄膜而利用。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2013-185007號公報
專利文獻2:日本特開2017-132977號公報
專利文獻3:WO2015/163115號小冊子
發(fā)明內(nèi)容
對于與被粘物的粘接力經(jīng)時發(fā)生變化的增強薄膜而言,很難說對工序的前置時間(lead-time)的靈活性是充分的。例如,具備粘接力經(jīng)時上升的粘合劑層的增強薄膜必須在與被粘物的貼合后至粘接力上升前的特定時間內(nèi)實施貼合狀態(tài)的檢查和再加工。此外,在裝置、裝置構(gòu)件的整面貼合增強薄膜之后進行從一部分區(qū)域?qū)⒃鰪姳∧とコ燃庸さ那闆r下,必須在粘接力上升前的期間進行加工。
鑒于上述情況,本發(fā)明的目的在于提供剛與被粘物貼合后容易再加工、可任意地設(shè)定與被粘物貼合后至粘接力上升前的時間、且通過粘接力上升可與被粘物牢固地粘接的增強薄膜。
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