[發(fā)明專利]增強(qiáng)薄膜

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010799659.3
• 申請(qǐng)日: 2018-09-18
• 公開（公告）號(hào): CN111876095A
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 仲野武史;林圭治;徐創(chuàng)矢;佐佐木翔梧;片岡賢一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日東電工株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C09J7/38
• 分類號(hào): C09J7/38;C09J7/20;C09J133/04;C09J133/06;C09J133/08;C09J11/06;B32B27/00;B32B27/28;B32B7/12
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種帶增強(qiáng)薄膜的裝置，其在具備聚酰亞胺薄膜基板的裝置的表面粘貼設(shè)置有增強(qiáng)薄膜，

所述增強(qiáng)薄膜具備薄膜基材以及固著層疊在所述薄膜基材的一個(gè)主面上的粘合劑層，

所述粘合劑層與裝置表面的聚酰亞胺薄膜基板貼合，

所述粘合劑層是使包含光固化性粘合劑組合物的粘合劑層固化而得到的，所述光固化性粘合劑組合物含有基礎(chǔ)聚合物和光固化劑，光固化后的粘合劑層的25℃下的剪切儲(chǔ)能模量為1.5×10⁵～2×10⁶Pa，相對(duì)于所述聚酰亞胺薄膜基板的粘接力為5N/25mm以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶增強(qiáng)薄膜的裝置，其中，所述光固化后的粘合劑層通過(guò)摩擦力顯微鏡所測(cè)定的頻率5Hz下的摩擦力為頻率0.1Hz下的摩擦力的5倍以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶增強(qiáng)薄膜的裝置，其中，所述光固化后的粘合劑層的100℃下的剪切儲(chǔ)能模量為50℃下的剪切儲(chǔ)能模量的60％以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶增強(qiáng)薄膜的裝置，其中，所述粘合劑層的厚度為5～50μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶增強(qiáng)薄膜的裝置，其中，所述粘合劑層的所述基礎(chǔ)聚合物通過(guò)異氰酸酯類交聯(lián)劑或環(huán)氧類交聯(lián)劑來(lái)導(dǎo)入交聯(lián)結(jié)構(gòu)。